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一种铝合金压铸件无铬钝化剂及其制备方法和应用
本发明公开了一种铝合金压铸件无铬钝化剂及其制备方法和应用,涉及金属表面处理技术。包含以下成分:钛盐1‑3g/L、钒酸盐0.1‑1g/L、硝酸盐3‑4g/L、硝酸稀土盐0.5‑10g/L、氟化物0.8‑1.2 g/L、螯合剂0.3‑0.5 g...
一种镁合金喷涂前处理工艺
本发明涉及合金技术领域,具体涉及一种镁合金喷涂前处理工艺。该工艺采用碱洗、酸活化镁合金后,依次进行预吸附和主转化处理。预吸附液A和主转化液B均包含聚醚化/两性离子化改性胶体二氧化硅母液,该母液通过胶体二氧化硅的氨基化、聚醚化、叔胺化及两性离...
一种新能源汽车电池用铜排的无铬钝化剂及其制备方法
本发明涉及一种新能源汽车电池用铜排的无铬钝化剂及其制备方法,属于金属表面处理技术领域,包括以下重量份数配比的原料:有机唑类化合物:6‑16重量份;钼酸盐:10‑30重量份;硅烷偶联剂:2‑10重量份;水溶性聚合物:4‑12重量份;促进剂:1...
一种铝型材在静电粉末喷涂前的表面处理及纯水洗工艺
本发明属于型材表面处理技术领域,具体涉及一种铝型材在静电粉末喷涂前的表面处理及纯水洗工艺,所述工艺包括脱脂、一级水洗、二级水洗、钝化、循环纯水洗和紫外处理。本发明通过在钝化液中加入修复剂肉桂酸巯基乙醇酯,促进剂硝酸铈铵具有氧化作用,将修复剂...
一种钛合金均温板表面处理方法
本发明公开了一种钛合金均温板表面处理方法,属于金属表面处理技术领域。该方法包括除油、钛抛光、多次清洗与超声波清洗、两次钝化及烘干步骤,其核心在于采用不含氢氟酸与硝酸的环保型弱酸抛光液进行温和抛光,并通过第一、第二钝化液依次处理的两次钝化工艺...
一种金属钝化剂及其制备方法和应用
本发明属于金属钝化技术领域,特别涉及一种金属钝化剂及其制备方法和应用。本发明的金属钝化剂包括硫醇类缓蚀剂、非离子表面活性剂、硫‑氮杂环类缓蚀剂、有机膦酸类阻垢缓蚀剂。本发明通过硫醇类缓蚀剂、非离子表面活性剂、硫‑氮杂环类缓蚀剂、有机膦酸类阻...
一种铜泡沫表面涂层及其制备方法和应用
本发明属于复合涂层技术领域,具体涉及一种铜泡沫表面涂层及其制备方法和应用。所述制备方法为:将预处理后的铜泡沫浸泡在去离子水、氢氧化钠和过硫酸铵组成的混合溶液中进行活化,得到活化后的铜泡沫;将活化后的铜泡沫浸入均苯三甲酸溶液中,在铜泡沫表面得...
一种高精度银电极微米级图形化方法
本发明涉及一种高精度银电极微米级图形化方法,主要包括通过分子气相沉积法在经过预处理的基底表面制备疏水分子膜,经紫外臭氧光刻实现分子膜图案化,再利用银镜反应在图案区域精准沉积银电极,从而达成流程简化环保、设备成本低、加工效率高、精度优且材料适...
一种镁合金高磷化学镀镍工艺
本发明涉及合金技术领域,具体涉及一种镁合金高磷化学镀镍工艺。该工艺依次包括碱性除油、第一段活化、钙离子桥联、锆离子固化及化学镀镍步骤。其中,第一段活化液含磷酸氢二铵、氟化钠及定向疏水化羟基乙叉二膦酸衍生物;化学镀镍液含硫酸镍、乳酸、丁二酸、...
一种活性位点预还原工艺高效制备金属包覆陶瓷粉体的方法
本发明公开了一种活性位点预还原工艺高效制备金属包覆陶瓷粉体的方法,属于粉末冶金技术领域。本发明通过在化学镀前对活化后陶瓷粉末表面的氧化活性位点进行预还原处理,显著提升了后续金属包覆陶瓷粉体的制备效率。相较于活化后直接化学镀的工艺,该预还原步...
半导体器件及其制备方法
本发明提供一种半导体器件及其制备方法。其中,所述制备方法在形成第一金属层的过程中,采用一遮挡环沿Taiko环的周围遮蔽Taiko环的部分顶表面,从而使得遮挡环遮蔽下的Taiko环的部分顶表面不会被金属溅射到,则不会被第一金属层覆盖。即,Ta...
一种制备石墨烯薄膜的设备和方法
本申请实施例提供一种制备石墨烯薄膜的设备和方法。涉及石墨烯制备技术领域。制备石墨烯薄膜的设备,包括承载组件、机体、真空组件、输送组件和多个启闭组件,承载组件包括铜箔和载板,铜箔设置在载板上;机体内设置有连通的预处理腔、镀膜腔和冷却腔,预处理...
一种加热器失效防护检测方法和系统
本申请公开了一种加热器失效防护检测方法和系统,属于伺服控制技术领域。其主要包括:在将薄膜沉积设备从维护模式切换至标准模式时,将加热器运行到原点;以预定的速度将加热器从原点向下限位传感器方向运行,并获取下限位传感器的触发信号,以及记录触发信号...
一种双面超导带材制备装置
本发明属于超导带材技术领域,公开了双面超导带材制备装置,包括反应箱、传送单元、喷淋单元和加热单元,传送单元用于沿第一方向传送基带,基带沿第一方向可活动地穿设反应箱,喷淋单元设置于反应箱内,并能向反应箱内的基带的第一表面和第二表面喷淋有机源颗...
一种化学气相沉积方法
本申请实施例公开一种化学气相沉积方法,该化学气相沉积方法包括:提供化学气相沉积装置,化学气相沉积装置包括腔体和射频信号源,射频信号源位于腔体外,腔体设置有射频信号输入端;射频信号源用于通过射频信号输入端向腔体内提供射频信号;提供半导体本体,...
加热盘机构及薄膜沉积设备
本申请提供了一种加热盘机构及薄膜沉积设备,包括:滑环组件,滑环组件包括转子和定子,转子和定子转动配合;加热盘,加热盘包括盘柄和盘体,盘体通过盘柄连接至转子;连接柱组件,连接柱组件包括第一电连接柱和第二电连接柱,第一电连接柱设置于定子,第二电...
循环化学气相沉积方法和循环化学气相沉积装置
本发明涉及一种循环化学气相沉积方法和循环化学气相沉积装置,该方法包括如下步骤:步骤1,向工艺腔室内注入工艺气体和反应气体;步骤2,一边注入所述工艺气体和所述反应气体,一边施加等离子体;步骤3,一边注入所述反应气体,一边施加等离子体;以及步骤...
一种用于电场均衡的调节装置
本申请涉及一种用于电场均衡的调节装置,该调节装置包括:反应腔体、阻抗调节器、多个电极站及升降机构;所述阻抗调节器采用具有导电弹性材料制成,设置在所述反应腔体的几何中心且接地;每个电极站包括下电极和上电极,所述下电极围绕所述阻抗调节器布置于所...
纳米类金刚石薄膜血管支架及其制备方法
本发明涉及医疗器械领域,具体涉及一种纳米类金刚石薄膜血管支架及其制备方法,包括以下步骤:首先对基材进行预处理,然后采用等离子增强化学气相沉积技术制备纳米类金刚石薄膜支架,将设备反应室调至真空状态后,在氩气保护下,将苯输入直流电弧放电等离子体...
承载销组件及沉积设备
本公开实施例涉及半导体制造领域,提供一种承载销组件及沉积设备,至少可以改善半导体制造过程中由于高温导致的热膨胀角度偏移问题。承载销组件包括:杆体;配重块,所述杆体的一端穿过所述配重块;补偿结构,所述补偿结构位于所述配重块与所述杆体之间;其中...
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