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摄影电影;光学设备的制造及其处理,应用技术
  • 一种硅片平台定位装置
    一种硅片平台定位装置_苏州矽视科技有限公司_202420042085.9
    本实用新型涉及硅片平台定位领域，具体涉及一种硅片平台定位装置，包括：底板、调节装置、顶板和硅片平台；多个所述调节装置呈圆周阵列固定于顶板与底板之间，用于调节顶板高度，所述顶板上设置有用于放置硅片的硅片平台；所述调节装置包括基座，所述基座上方...
    2026-04-22
  • 一种基于分光光度法的比色池
    一种基于分光光度法的比色池_湖北方圆科学仪器股份有限公司_202520917712.3
    本实用新型提供了一种基于分光光度法的比色池，包括腔体、比色皿、光源和光学检测器，腔体内设置有用于放置比色皿的腔室，腔室贯通腔体的上表面，腔体的上部外壁从上到下设置有第一外螺纹圈和第二外螺纹圈，腔体的第二外螺纹圈上连接有用于与分光光度检测设备...
    2026-04-22
  • 电池片曝光装置和电池片生产系统
    电池片曝光装置和电池片生产系统_通威太阳能(成都)有限公司_202521158377.X
    本实用新型涉及电池片制备技术领域，具体而言，涉及一种电池片曝光装置和电池片生产系统；电池片生产系统包括电池片曝光装置，电池片曝光装置包括印刷平台和印刷机构，印刷平台用于放置电池片；印刷机构包括升降组件和印刷组件，升降组件与印刷组件传动连接，...
    2026-04-22
  • 一种基于双主控模块的复杂功率控制系统
    一种基于双主控模块的复杂功率控制系统_苏州长风航空电子有限公司_202511907488.0
    本申请提供了一种基于双主控模块的复杂功率控制系统，属于功率控制技术领域，具体包括电源模块、仲裁模块和双主控模块，双主控模块包括数据采集模块、第一CPU模块和第二CPU模块；电源模块为仲裁模块和双主控模块供电及复杂功率负载信号输入输出，数据采...
    2026-04-22
  • 一种具备双工位交替曝光的曝光机输送平台
    一种具备双工位交替曝光的曝光机输送平台_重庆博硕自动化设备有限公司_202521128715.5
    本实用新型公开了一种具备双工位交替曝光的曝光机输送平台，涉及曝光机技术领域，包括：支撑架，设置于所述支撑板上，与支撑板固定连接；支撑柱，与所述支撑架固定连接；支撑罩，与所述支撑柱固定连接；移动机构，设置于所述支撑框上，用于对曝光物体进行移动...
    2026-04-22
  • 一种基于双检双驱动机制的高可靠点火控制系统
    一种基于双检双驱动机制的高可靠点火控制系统_北京微电子技术研究所_202511944691.5
    本发明涉及一种基于双检双驱动机制的高可靠点火控制系统，属于硬件电路设计技术领域；测试系统通过串口线缆接到PC机监控系统发送数据流信号后发送响应数据传输信号通过通信线缆到高可靠点火控制系统；高可靠点火控制系统进行供电识别信号检测和状态识别信号...
    2026-04-22
  • 摄像装置、摄像方法及记录介质
    摄像装置、摄像方法及记录介质_富士胶片株式会社_202180067098.0
    本发明提供一种用户能够容易拍摄所期望的摄像条件的动态图像的摄像装置、摄像方法及摄像程序。本发明的一方式中，摄像装置具备摄像部及处理器，其中，处理器进行如下处理：设定应用于由摄像部拍摄的动态图像数据的第1摄像参数；在受理由摄像装置的用户进行的...
    2026-04-22
  • 一种感光性树脂组合物
    一种感光性树脂组合物_万华化学集团股份有限公司_202411436919.5
    本发明公开了一种感光性树脂组合物，其中含有(a)碱溶性树脂(b)感光剂(c)助粘剂(d)锥角调节剂和(e)有机溶剂。本发明提供的感光性树脂组合物，具有分辨率高、光刻图形截面锥角可控的特点，适用于显示面板的像素定义层、绝缘层、平坦化层，或半导...
    2026-04-22
  • 微影系统预防维修操作方法
    微影系统预防维修操作方法_台湾积体电路制造股份有限公司_201911257046.0
    本案提供一种微影系统的预防维修操作方法，包括以下步骤：将金属液滴从液滴产生器的储蓄器喷向收集器前方的激发区，将激发激光朝向激发区发射，使得金属液滴通过激发激光加热以生成极紫外(EUV)辐射，停止激发激光的发射，使液滴产生器的储蓄器减压，使液...
    2026-04-22
  • 图形修正方法
    图形修正方法_中芯国际集成电路制造(上海)有限公司_202310462378.2
    一种图形修正方法，包括：将初始版图进行第一划分，获得若干第一块区；基于若干第一块区对初始版图进行修正，获得第一修正版图，第一修正版图包括若干与块区图形对应的第一修正图形；在若干第一块区的若干块区图形中，获取若干第一特殊图形；根据第一特殊图形...
    2026-04-22
  • 一种竖筒覆膜超压水力举重储能装置所用的往复运动柱
    一种竖筒覆膜超压水力举重储能装置所用的往复运动柱_上海肯拙科技有限公司_202510724656.6
    本发明涉及一种竖筒覆膜超压水力举重储能装置所用的往复运动柱，包括往复运动柱侧壁(1)、往复运动柱底板(2)、废弃物配重体(4)与伸缩滚轮(8)四部分，其中的废弃物配重体(4)是由废弃物组成的具备增加往复运动柱底部压力功能的部件，往复运动柱侧...
    2026-04-22
  • 一种功率单元的冗余式通信控制系统及方法
    一种功率单元的冗余式通信控制系统及方法_东方电气自动控制工程有限公司_202610127299.X
    本发明属于电力电子技术领域，公开一种功率单元的冗余式通信控制系统及方法，旨在解决现有系统单点故障风险高、采样异常难识别、兼容性差的问题。系统包括通信扩展模块、功率回路系统及个互为备份的控制器，控制器具独立采样、运算及输入输出通道；通信扩展模...
    2026-04-22
  • 一种具有微结构阵列的多功能投影屏的制备方法
    一种具有微结构阵列的多功能投影屏的制备方法_矽万(上海)半导体科技有限公司_202211638513.6
    本发明公开了一种基于微结构阵列的多功能投影屏的制备方法，包括：步骤a：利用matlab算法软件转化得到所述多功能投影屏的子结构的灰度图；所述子结构包括凹形非球面反射镜以及位于所述凹形非球面反射镜周围的周期性排列的多个尖锥状凸起；步骤b：通过...
    2026-04-22
  • 一种曝光机用快速换膜机构
    一种曝光机用快速换膜机构_重庆博硕自动化设备有限公司_202521149499.2
    本实用新型公开了一种曝光机用快速换膜机构，涉及曝光机技术领域，包括：支撑光罩，与所述支撑杆固定连接；伸缩机构，设置于所述支撑框内，用于对掩膜板进行移动；旋转机构，设置于所述伸缩机构上，用于对掩膜板进行旋转，便于对掩膜板进行更换；夹持机构，设...
    2026-04-22
  • 控制装置、定位装置、光刻装置和物品制造方法
    控制装置、定位装置、光刻装置和物品制造方法_佳能株式会社_202511468003.2
    本文提供了控制装置、定位装置、光刻装置、物品制造方法和存储介质。控制装置基于由前馈控制器生成的前馈操纵变量来控制对象。装置包括确定器，该确定器进行操作以基于指示对象中的控制误差的变化的控制误差数据串以及指示在特定操纵变量被提供给对象时的对象...
    2026-04-22
  • 光致抗蚀剂图案形成方法及使用该形成方法制造的半导体器件
    光致抗蚀剂图案形成方法及使用该形成方法制造的半导体器件_YC化工股份有限公司_202511481696.9
    一种光致抗蚀剂图案形成方法，所述方法使用通常的光致抗蚀剂形成具有更大纵横比的图案；以及使用该形成方法制造的半导体器件。所述光致抗蚀剂图案形成方法通过在清洗步骤中使用加热的超纯水和/或加热的冲洗液，可以减少清洗后旋转干燥工艺过程中的图案塌陷缺...
    2026-04-22
  • 一种吸塑托盘叠料机构
    一种吸塑托盘叠料机构_南通庄吉华威电子有限公司_202521117323.9
    本实用新型提供一种吸塑托盘叠料机构，涉及吸塑托盘叠料技术领域，旨在解决现有吸塑托盘叠料装置采用单一尺寸吸塑托盘的集料工作，无法实现同一收集框不同尺寸吸塑托盘的收集，叠料机构的结构通用性低的问题，包括收集箱，所述收集箱的两侧安装有辅助架，所述...
    2026-04-22
  • 预测万亿分之一故障率的方法
    预测万亿分之一故障率的方法_ASML荷兰有限公司_202480060271.8
    公开了一种预测万亿分之一故障率的方法，更具体地，一种通过对样品上的特征进行分组来显著增加器件或样品上可用于量测和检测的特征数量，从而改进故障率预测的方法。可以同时使用单束工具和多束工具来校准计算模型，并利用对样品的准确的万亿分之一故障率预测...
    2026-04-22
  • 用于光刻设备中的图案化装置的运动控制的系统和方法
    用于光刻设备中的图案化装置的运动控制的系统和方法_ASML荷兰有限公司_202480059855.3
    掩模版通常通过夹具被夹持到光刻设备中的卡盘。由夹具提供的力可以限制所述掩模版可以加速多快(例如如果掩模版加速太快，则掩模版的动量可能会破坏夹持力，并且掩模版可能在卡盘上滑动)。描述了一种新的运动控制系统，新的运动控制系统在加速期间对掩模版施...
    2026-04-22
  • 具有背侧导电层的空白掩模及利用其制造的光掩模
    具有背侧导电层的空白掩模及利用其制造的光掩模_思而施技术株式会社_202011322130.9
    一种具有背侧导电层的空白掩模及利用其制造的光掩模。空白掩模包含附接到衬底的背侧的导电层，且导电层包含依序堆叠在衬底的背侧上的第一层、第二层以及第三层。第一层和第三层由含有铬(Cr)和氧(O)的材料制成，且第二层由不含有氧(O)但含有铬(Cr...
    2026-04-22
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