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摄影电影;光学设备的制造及其处理,应用技术
  • 一种负载效应预测方法、设备、介质及产品
    一种负载效应预测方法、设备、介质及产品_深圳晶源信息技术有限公司_202610101078.5
    本申请公开了一种负载效应预测方法、设备、介质及产品，涉及半导体刻蚀技术领域。该负载效应预测方法包括：获取待预测图形的第一邻域所对应的光学空间图像，以及第二邻域所对应的部分图形分布密度图像，确定待预测图形的待模拟刻蚀输入信息，第二邻域的覆盖范...
    2026-04-15
  • 一种多功能旋转式曝光机夹具
    一种多功能旋转式曝光机夹具_重庆博硕自动化设备有限公司_202521127794.8
    本实用新型公开了一种多功能旋转式曝光机夹具，涉及曝光机技术领域，包括：支撑框，设置于所述支撑板上，与支撑板固定连接；支撑柱，设置于所述支撑框内，与支撑框固定连接；移动机构，设置于所述支撑板上，用于对光刻板进行移动；夹持机构，设置于所述移动机...
    2026-04-15
  • 控制设备、光刻装置和物品制造方法
    控制设备、光刻装置和物品制造方法_佳能株式会社_202210902358.8
    本公开涉及控制设备、光刻装置和物品制造方法。一种控制待控制对象的控制设备。该设备包括：生成器，被配置为生成用于确定操纵变量的概率分布；以及确定器，被配置为基于由生成器生成的概率分布来确定操纵变量。在操作阶段中，确定器根据概率分布的期望值来确...
    2026-04-15
  • 掩模版转移装置及掩模版转移方法
    掩模版转移装置及掩模版转移方法_上海御微半导体技术有限公司_202411451515.3
    本发明涉及电子产品生产技术领域，具体公开了一种掩膜版转移装置及掩膜版转移方法，其中，开盖机构设于底座且用于将掩膜版储存盒的盖体打开；转移机构设于底座，且转移机构的输出端具有用于从掩膜版储存盒中抓取掩膜版的抓取组件，抓取组件中，两个夹持件均沿...
    2026-04-15
  • 用于优化无掩膜光刻机线宽均匀性的方法及光刻系统
    用于优化无掩膜光刻机线宽均匀性的方法及光刻系统_上海微铁克光电设备有限公司_202610127516.5
    本发明提供了一种用于优化无掩膜光刻机线宽均匀性的方法及光刻系统，该方法首先通过曝光并测量特定测试图形，获取曝光区域内各位置的线宽分布数据；然后基于该数据计算出补偿能量分布不均所需的光刻数据调整量；最后通过调整目标产品光刻图形数据中相应像素的...
    2026-04-15
  • 一种光学投影装置
    一种光学投影装置_东莞市和创光学科技有限公司_202520111169.8
    本实用新型公开了一种光学投影装置，涉及投影结构技术领域，包括外壳、菲林片、聚光透镜和成像镜头，所述聚光透镜和所述菲林片重叠设置在所述外壳内，所述成像镜头可拆卸地连接在所述外壳的一端，所述菲林片位于所述聚光透镜与所述成像镜头之间；本实用新型采...
    2026-04-15
  • 激光直写系统刻写方法、装置及计算机设备
    激光直写系统刻写方法、装置及计算机设备_之江实验室_202310399542.X
    本申请涉及一种激光直写系统刻写方法、装置及计算机设备。所述激光直写系统包括图像传感模块、振镜、位移台，所述方法包括：确定所述位移台移动的第一距离与所述图像传感模块像素点对应移动的第二距离之间的第一关系；基于所述第一关系和预设系数确定振镜电压...
    2026-04-15
  • 一种柔印版的制版工艺
    一种柔印版的制版工艺_上海柔丽科技有限公司_202411912862.1
    本发明公开了一种柔印版的制版工艺，该制版工艺包括以下步骤：S1 : 将待曝光基材以及图案板重叠后放置在曝光机内；S2：LED灯板高功率启动；S3：LED灯板从待曝光基材的前端平行移动至待曝光基材的后端；S4：LED灯板原地等待并降低其功率；...
    2026-04-15
  • 整车控制功能冗余实现方法、装置、车辆、介质及产品
    整车控制功能冗余实现方法、装置、车辆、介质及产品_重庆长安汽车股份有限公司_202610015808.X
    本发明涉及智能控制技术领域，公开了整车控制功能冗余实现方法、装置、车辆、介质及产品，本发明通过按驾驶功能划分软件功能模块，并将其与对应的冗余备份模块部署在不同算力中心，结合软件函数调用关系生成调度链路，异常时基于异常所关联的函数和冗余备份模...
    2026-04-15
  • 一种多重冗余控制系统的时钟同步控制方法和系统
    一种多重冗余控制系统的时钟同步控制方法和系统_北京康吉森技术有限公司_202511816573.6
    本发明提出一种多重冗余控制系统的时钟同步控制方法和系统。涉及工业自动化控制技术领域。该方法包括：各控制器广播并接收同步时钟和同步脉冲；利用高频诊断时钟对时钟信号进行健康诊断；结合处理器状态及主备切换逻辑确定主备状态；根据健康状态及主备状态，...
    2026-04-15
  • 一种投影装置
    一种投影装置_王春兰_202521144888.6
    本申请提供一种投影装置，包括：主体；盖体，与主体活动连接；发光组件，发光组件能够发出光信号；菲林组件，设于出光信号的传输路径上；成像组件，用于对透过菲林组件的光信号进行成像，盖体盖设于主体时，成像组件设置于菲林组件背离发光组件的一侧；其中，...
    2026-04-15
  • 一种基于条纹相机的超快压缩全息成像系统及方法
    一种基于条纹相机的超快压缩全息成像系统及方法_山东师范大学_202211267409.0
    本发明公开了一种基于条纹相机的超快压缩全息成像系统及方法，涉及全息成像技术领域。包括：激光发射单元、物光光路单元、参考光光路单元和全息图压缩单元；激光发射单元将发射的激光分为两路，一路作为物光进入物光光路单元，一路作为参考光进入参考光路单元...
    2026-04-15
  • 一种支持容错机制的造波机控制系统及控制方法
    一种支持容错机制的造波机控制系统及控制方法_江苏科技大学_202211421375.6
    本发明涉及船舶与海洋工程实验室波浪模拟系统领域，具体涉及一种支持容错机制的造波机控制系统及控制方法。本发明的控制系统由造波机控制终端、运动控制器、备用运动控制器、电源模块一、运动控制多路选择器模块、驱动器1~28、备用驱动器、电源模块二、驱...
    2026-04-15
  • 基板退膜装置
    基板退膜装置_绍兴芯链半导体科技有限公司_202521132549.6
    本实用新型属于退膜领域，具体涉及一种基板退膜装置，包括退膜容器，所述退膜容器内部用于容纳退膜液；承托部件，所述承托部件用于放置基板；以及移动机构，所述移动机构与所述承托部件相连，所述移动机构包括升降结构，所述升降结构可带动所述承托部件升降运...
    2026-04-15
  • 贷款审批流程操作方法、装置、设备及存储介质
    贷款审批流程操作方法、装置、设备及存储介质_中国建设银行股份有限公司_202511941649.8
    本公开提供了一种贷款审批流程操作方法、装置、设备及存储介质，应用于贷款审批技术领域。该方法包括：响应于审批系统的第一客户端节点的审批请求，将基于审批请求生成的贷款合同分别发送给第一客户端节点和审批系统的至少一个第二客户端节点进行贷款合同审批...
    2026-04-15
  • 一种天花幕外壳及天花幕
    一种天花幕外壳及天花幕_亿立影视科技(惠州)有限公司_202521052251.4
    本实用新型涉及一种天花幕外壳及天花幕，天花幕外壳包括中空的主壳体、可拆卸设置在所述主壳体宽度方向两侧的第一挡板、以及可拆卸设置在所述主壳体长度方向两侧的第二挡板，所述主壳体宽度方向的侧壁倾斜向下设有挂槽，所述挂槽沿所述主壳体长度方向的一端延...
    2026-04-15
  • 光刻载片托盘及其制作方法
    光刻载片托盘及其制作方法_中国科学院苏州纳米技术与纳米仿生研究所_202310448675.1
    本发明公开了一种光刻载片托盘以及其制作方法，光刻载片托盘包括托盘本体以及具有弹性形变的限位件；托盘本体上设置有容纳载片的容置槽；限位件设置于所述托盘本体上且部分延伸至所述容置槽内，所述限位件能提供垂直于所述容置槽深度方向上或者沿所述容置槽深...
    2026-04-15
  • 液冷CDU切机控制方法、装置、群控系统及数据中心
    液冷CDU切机控制方法、装置、群控系统及数据中心_科华数据股份有限公司_202511944829.1
    本申请适用于液冷系统技术领域，提供一种液冷CDU切机控制方法、装置、群控系统及数据中心。该方法适用于包括多个联机液冷CDU的液冷CDU群控系统，液冷CDU中有一个为主机；该方法包括：在达到预设轮巡日期时，若存在备机，则根据预设轮巡顺序确定目...
    2026-04-15
  • 电子设备及其控制方法
    电子设备及其控制方法_佳能株式会社_202180059955.2
    一种电子设备，包括在第一侧的第一镜头和第二镜头，所述第二镜头具有与所述第一镜头的视角不同的视角，所述电子设备包括：切换单元，其被配置为切换经由所述第一镜头的第一摄像以及经由所述第二镜头的第二摄像；以及控制单元，其被配置为控制与多个摄像模式各...
    2026-04-15
  • 光致抗蚀剂组合物及图案形成方法
    光致抗蚀剂组合物及图案形成方法_罗门哈斯电子材料有限责任公司_202111513464.9
    公开了一种光致抗蚀剂组合物，该光致抗蚀剂组合物包含：第一聚合物，该第一聚合物包含第一重复单元，该第一重复单元包含酸不稳定基团；和第二聚合物，该第二聚合物包含衍生自一种或多种具有式(4)的单体的重复单元；光酸产生剂；以及溶剂，其中Z1、Z2、...
    2026-04-15
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