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摄影电影;光学设备的制造及其处理,应用技术
  • 一种纳米压印和光刻工艺的兼容设备
    一种纳米压印和光刻工艺的兼容设备_浙江至格科技有限公司_202521129811.1
    本实用新型提供一种纳米压印和光刻工艺的兼容设备，包括上料单元、匀胶单元、压印曝光组件、显影单元、下料单元以及取料单元。压印曝光组件包括第一压印曝光作业单元、第二压印曝光作业单元、曝光单元、第一压印单元以及第二压印单元。上料单元、匀胶单元、显...
    2026-04-15
  • 用于非曼哈顿掩膜制造的基于规则的掩膜图形约束方法
    用于非曼哈顿掩膜制造的基于规则的掩膜图形约束方法_浙江大学_202610278700.X
    本发明公开了一种用于非曼哈顿掩膜制造的基于规则的掩膜图形约束方法，包括构建二值掩膜图像，按行扫描掩膜图像，根据每个掩码图案像素的邻居像素情况分配标签，重复扫描得到最终标签，将相同最终标签的区域作为最终连通区域；扫描各个连通区域，进行邻域前景...
    2026-04-15
  • 感光性树脂组合物、固化物、层叠体、固化物的制造方法、层叠体的制造方法、半导体器件的制造方法及半导体器件
    感光性树脂组合物、固化物、层叠体、固化物的制造方法、层叠体的制造方法、半导体器件的制造方法及半导体器件_富士胶片株式会社_202480058505.5
    一种感光性树脂组合物、将上述组合物固化而成的固化物、包含固化物的层叠体、固化物的制造方法、层叠体的制造方法、包括固化物的制造方法的半导体器件的制造方法及包含固化物的半导体器件，上述感光性树脂组合物含有：树脂A，其包含具有烯属不饱和键的基团且...
    2026-04-15
  • 透镜驱动装置、相机装置和光学仪器
    透镜驱动装置、相机装置和光学仪器_LG伊诺特有限公司_202480056532.9
    本实施方式涉及一种透镜驱动装置，该透镜驱动装置包括：基部；第一承载件，该第一承载件设置在基部中；第二承载件，该第二承载件设置在第一承载件中；第一线圈和第一磁体，第一线圈和第一磁体用于使第一承载件沿光轴方向移动；第二线圈和第二磁体，第二线圈和...
    2026-04-15
  • 一种高选择比的掩模板Cr图形刻蚀方法
    一种高选择比的掩模板Cr图形刻蚀方法_天府兴隆湖实验室_202511967244.1
    本发明公开了一种高选择比的掩模板Cr图形刻蚀方法，属于掩模板制造的技术领域，在Cr层顶部涂覆光刻胶层，然后，进行曝光，在图形曝光的过程中，使用反向版图将图形加工到Cr层上，得到Cr图形层；利用物理沉积方式，在刻蚀后的光刻胶层以及Cr图形层上...
    2026-04-15
  • 企业信贷审批方法、装置、电子设备及介质
    企业信贷审批方法、装置、电子设备及介质_中国建设银行股份有限公司山西省分行_202511781165.1
    本申请实施例公开了一种企业信贷审批方法、装置、电子设备及介质，涉及信息处理技术领域，该方法的一具体实施方式包括：响应于企业客户通过信贷申请终端提交的授权请求，向外部政务数据平台发起数据获取指令；接收外部政务数据平台基于数据获取指令反馈的企业...
    2026-04-15
  • 晶圆图像形变的修正方法
    晶圆图像形变的修正方法_上海华力集成电路制造有限公司_202211343910.0
    本发明提供了一种晶圆图像形变的修正方法，提供一表面具有布线图形的晶圆，获取所述晶圆的设计版图和扫描图像，所述设计版图包括与所述布线图形相对应的设计图形，所述扫描图像包括与所述布线图形相对应的扫描图形；将所述扫描图像的中心与所述设计版图的中心...
    2026-04-15
  • 基板退膜装置
    基板退膜装置_绍兴芯链半导体科技有限公司_202521132549.6
    本实用新型属于退膜领域，具体涉及一种基板退膜装置，包括退膜容器，所述退膜容器内部用于容纳退膜液；承托部件，所述承托部件用于放置基板；以及移动机构，所述移动机构与所述承托部件相连，所述移动机构包括升降结构，所述升降结构可带动所述承托部件升降运...
    2026-04-15
  • 一种基于条纹相机的超快压缩全息成像系统及方法
    一种基于条纹相机的超快压缩全息成像系统及方法_山东师范大学_202211267409.0
    本发明公开了一种基于条纹相机的超快压缩全息成像系统及方法，涉及全息成像技术领域。包括：激光发射单元、物光光路单元、参考光光路单元和全息图压缩单元；激光发射单元将发射的激光分为两路，一路作为物光进入物光光路单元，一路作为参考光进入参考光路单元...
    2026-04-15
  • 一种支持容错机制的造波机控制系统及控制方法
    一种支持容错机制的造波机控制系统及控制方法_江苏科技大学_202211421375.6
    本发明涉及船舶与海洋工程实验室波浪模拟系统领域，具体涉及一种支持容错机制的造波机控制系统及控制方法。本发明的控制系统由造波机控制终端、运动控制器、备用运动控制器、电源模块一、运动控制多路选择器模块、驱动器1~28、备用驱动器、电源模块二、驱...
    2026-04-15
  • 一种旋涂光刻胶的辅助装置
    一种旋涂光刻胶的辅助装置_合肥市国微光电科技有限公司_202521141138.3
    本实用新型涉及旋涂光刻胶技术领域，尤其是一种旋涂光刻胶的辅助装置，包括底座，底座的顶部设置有调整组件；调整组件包括转盘，转盘的顶部外壁上开设有等距离呈环形结构分布的移动槽，转盘的外部通过轴承活动安装有旋转座，移动槽的内部通过轴承活动安装有延...
    2026-04-15
  • 光刻设备、多波长相位调制扫描量测系统及方法
    光刻设备、多波长相位调制扫描量测系统及方法_ASML荷兰有限公司_202180038464.X
    一种量测系统，包括辐射源、第一光学系统、第二光学系统和第三光学系统、和处理器。所述第一光学系统将所述辐射分束成辐射的第一束和第二束，并在所述第一束和第二束之间施加一个或更多个相位差。所述第二光学系统朝向目标结构引导所述第一束和第二束以产生辐...
    2026-04-15
  • 一种正投影屏幕及投影系统
    一种正投影屏幕及投影系统_四川菲斯特科技有限公司_202511757982.3
    本发明属于投影显示领域，公开了一种正投影屏幕，依次包含成像层、微结构层和反射层，所述微结构层上设置有透明微结构与黑色微结构，所述透明微结构与所述黑色微结构交替相间排列，所述黑色微结构用于吸收光线，以所述透明微结构的材料折射率为n2，所述黑色...
    2026-04-15
  • 一种分布式驱动线控底盘的冗余容错控制系统及控制方法
    一种分布式驱动线控底盘的冗余容错控制系统及控制方法_江苏徐工工程机械研究院有限公司_202511785005.4
    本发明设计一种分布式驱动线控底盘的冗余容错控制系统及控制方法，该系统通过多层级冗余设计，包括电源子系统冗余、双控制器热备份冗余、四角模块独立控制互为冗余，结合降级容错机制，实现全线控底盘系统的高可靠性运行。系统包含DCDC、低压蓄电池、双控...
    2026-04-15
  • 曝光系统的控制方法和曝光系统
    曝光系统的控制方法和曝光系统_合肥芯碁微电子装备股份有限公司_202310159619.6
    本发明公开了一种曝光系统的控制方法和曝光系统，所述曝光系统的控制方法包括：获取所述曝光系统的工作参数和所述曝光系统的感光材料的曝光剂量输入值；根据所述工作参数和所述曝光剂量输入值获得所述脉冲激光器单脉冲发射能量；获取所述运动平台的位置同步信...
    2026-04-15
  • 一种高精度的正弦摆线型衍射波片的光学压印制备方法
    一种高精度的正弦摆线型衍射波片的光学压印制备方法_湖南大学_202310139800.0
    本发明公开了一种高精度的正弦摆线型衍射波片的光学压印制备方法，通过带有至少两层扭曲结构的正弦摆线型衍射波片作为偏振转换衍射波片来提高光学制备的精度，实现百纳米量级正弦摆线周期结构的光学压印。解决了基于偏振全息曝光系统制备正弦摆线型衍射波片速...
    2026-04-15
  • 一种光刻机的误差补偿系统
    一种光刻机的误差补偿系统_辰瓴半导体(嘉兴)有限公司_202511161621.2
    本申请涉及一种光刻机的误差补偿系统，涉及光刻机误差补偿技术领域，其包括设于光刻机上的承载台、掩模板、处理器，所述承载台的上表面沿圆周方向间隔且对称设置有若干楔块、线性制动器，所述线性制动器与所述承载台固定连接，所述楔块沿靠近或远离对称轴线的...
    2026-04-15
  • 一种基于双涡轮风扇阵列的投影仪立体散热系统
    一种基于双涡轮风扇阵列的投影仪立体散热系统_深圳紫晶光电科技有限公司_202520934029.0
    本实用新型涉及投影仪技术领域，且公开了一种基于双涡轮风扇阵列的投影仪立体散热系统，该立体散热系统用于对投影仪主体的显示单元面的散热，该立体散热系统由涡轮风扇、散热风道、投影仪显示单元、两个进风口、两个出风口组成，其中涡轮风扇包括第一涡轮风扇...
    2026-04-15
  • 一种负载效应预测方法、设备、介质及产品
    一种负载效应预测方法、设备、介质及产品_深圳晶源信息技术有限公司_202610101078.5
    本申请公开了一种负载效应预测方法、设备、介质及产品，涉及半导体刻蚀技术领域。该负载效应预测方法包括：获取待预测图形的第一邻域所对应的光学空间图像，以及第二邻域所对应的部分图形分布密度图像，确定待预测图形的待模拟刻蚀输入信息，第二邻域的覆盖范...
    2026-04-15
  • 抗蚀剂组合物及抗蚀剂图案形成方法
    抗蚀剂组合物及抗蚀剂图案形成方法_东京应化工业株式会社_202480057882.7
    本发明涉及抗蚀剂组合物，其为能够通过曝光而产生酸、且在显影液中的溶解性能够通过酸的作用而变化的抗蚀剂组合物，该抗蚀剂组合物含有：在显影液中的溶解性能够通过酸的作用而变化的基材成分(A)、和能够通过曝光而产生酸的产酸剂成分(B)，前述产酸剂成...
    2026-04-15
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