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最新专利技术
  • 包括可移动声学保持元件的静音通信面罩
    包括可移动声学保持元件的静音通信面罩_国家航空航天研究所_202480063495.4
    本发明涉及一种旨在用于放置在使用者(5)的头部的静音通信面罩(1)，所述静音通信面罩(1)包括：‑壳体(2)，所述壳体被构造成用于覆盖所述使用者(5)的口部和鼻部，所述壳体包括至少一个呼气部(14)；‑至少一个麦克风(3)，所述麦克风由所述...
    2026-05-01
  • 基于机器学习的音频子带处理
    基于机器学习的音频子带处理_高通股份有限公司_202480063037.0
    一种设备包括存储器，该存储器被配置为存储音频数据。该设备还包括一个或多个处理器，该一个或多个处理器被配置为使用第一机器学习模型来处理第一音频数据以生成第一空间扇区音频数据。该第一空间扇区音频数据与第一空间扇区相关联。该一个或多个处理器还被配...
    2026-05-01
  • 高带宽非易失性存储器
    高带宽非易失性存储器_闪迪技术公司_202580004947.6
    一种非易失性存储器装置包括具有多个层的存储器裸片的叠堆。每一层具有多个存储器裸片，并且该叠堆包括用于每个存储器裸片的单独的平行硅通孔(TSV)。该非易失性存储器装置还包括存储器控制器，该存储器控制器与用于每个存储器裸片的该单独的平行TSV进...
    2026-05-01
  • 易失性存储器系统中的多存储体刷新
    易失性存储器系统中的多存储体刷新_高通股份有限公司_202480058026.3
    各种实施方案包括用于在存储器设备上实现多存储体存储器刷新命令的方法。存储器控制器可在刷新周期中选择要刷新的一数量的存储器存储体、选择要刷新的第一存储器存储体、以及向存储器设备传送对要刷新的一数量的存储器存储体以及第一存储器存储体进行编码的多...
    2026-05-01
  • 高带宽非易失性存储器设备
    高带宽非易失性存储器设备_闪迪技术公司_202580004794.5
    提供了一种装置，该装置包括存储器系统，该存储器系统包括多个存储器裸片，每个存储器裸片包括包含多个非易失性存储器单元的存储器阵列。存储器系统具有约3TB/s的带宽，并且每个存储器阵列具有约1pJ/位的功率效率。
    2026-05-01
  • 减少用于编程非易失性存储器中的单层级单元块的时间的方法和设备
    减少用于编程非易失性存储器中的单层级单元块的时间的方法和设备_英特尔NDTM(美国)有限责任公司_202480060876.7
    通过减少用于执行编程操作的时间来增加NAND性能。用于编程NAND存储器阵列中的NAND单元的部分的操作包含多个阶段。通过减少所述多个阶段中的第一阶段中用于计算参数的时间来增加NAND性能，所述参数在第二阶段中用于执行一个或多个编程操作和一...
    2026-05-01
  • 用于高效基于序列的配体结合口袋预测的方法和系统
    用于高效基于序列的配体结合口袋预测的方法和系统_昂胜医疗科技公司_202480061674.4
    本公开描述了用于识别蛋白质的配体结合位点(比如隐匿配体结合口袋)或配体结合残基的新颖方法和系统。所公开的方法和系统采用了利用先进的蛋白质语言模型(PLM)的“高效基于序列的隐匿口袋预测”(ESP)，并且证明了与现有的基于机器学习(ML)的隐...
    2026-05-01
  • 信息处理方法、提示方法、程序、制造方法
    信息处理方法、提示方法、程序、制造方法_松下知识产权经营株式会社_202480062247.8
    本公开提供一种信息处理方法、提示方法、程序以及制造方法，能够关于构成物质的分子以没有实验值的方式运算物质的物性值的变化。由计算机系统(1)执行的信息处理方法包括：取得构成物质的一个以上的分子各自的化学式和一个以上的分子的构成比(S1)；根据...
    2026-05-01
  • 用于区分集成解决方案之间的性能的方法和系统
    用于区分集成解决方案之间的性能的方法和系统_阿尔法装配解决方案公司_202480062632.2
    一种用以向客户传达基于证据的价值主张的图形用户界面(GUI)。该工具能够呈现具有交互式吸引力的基于证据的价值，并且使得能够对可针对特定客户需求定制的各种集成解决方案进行互动。因此，本发明的工具期望演示各种集成解决方案的界面，以提供基于证据的...
    2026-05-01
  • 一种用于实时计算患者胃排空速率的方法及装置
    一种用于实时计算患者胃排空速率的方法及装置_首都医科大学宣武医院_202580004322.X
    一种用于实时计算患者胃排空速率的方法及装置。该方法包括：S1、采用荧光指示法确定表征患者胃排空速率的胃排空趋势线；S2、实时监测患者的血糖；S3、根据患者的血糖的实时监测值来个性化修正患者的胃排空速率。该装置包括：荧光测量单元，被配置为采用...
    2026-05-01
  • 正畸与牙科修复联合处理
    正畸与牙科修复联合处理_舒万诺知识产权公司_202480062727.4
    公开了用于在执行第二处理(例如，牙科修复处理)之前自动确定何时推荐第一处理(例如，正畸处理)的系统和技术，这些系统和技术包括：接收患者齿列的三维(3D)表示，该患者齿列具有患者的牙龈或者患者的一颗或多颗牙齿这两者中的至少一者；基于患者齿列的...
    2026-05-01
  • 针对血管指数测量的增强用户界面和串扰分析
    针对血管指数测量的增强用户界面和串扰分析_凯思沃克斯有限公司_202480062259.0
    用于心脏指数确定的针对增强用户界面和串扰分析的系统和方法。一种示例方法包括访问患者心脏的一部分的心脏模型，该一部分包括患者心脏的一个或多个血管，以及心脏模型指示沿着血管的至少一个血管的长度的多个病变；基于针对病变的心脏模型，获得针对沿着长度...
    2026-05-01
  • 针对用于运输放射性材料的包装的通过自然对流进行散热的结构
    针对用于运输放射性材料的包装的通过自然对流进行散热的结构_欧安诺核包和服务公司_202480063160.2
    本发明涉及一种用于通过自然对流散热的结构(30)，其旨在装备用于运输放射性材料的包装(1)的侧向主体的外表面，该结构在该结构的假想中间平面(P)的第一侧(46a)和第二侧(46b)中的每一个处包括：‑第一散热子组件(40a)，第一散热子组件...
    2026-05-01
  • 离子阱以及用于调整磁场的方法
    离子阱以及用于调整磁场的方法_伊莱克特伦有限公司_202480061201.4
    指定了一种离子阱(1)，具有‑一组电极(2)，该组电极被配置成在处理区(5)处囚禁和/或操纵至少一个离子，‑至少一个磁体布置(3)，该至少一个磁体布置被配置成在处理区(5)中建立磁场，以及‑至少两个磁场传感器装置(4)，上述至少两个磁场传感...
    2026-05-01
  • 离子阱、量子计算机和用于生产离子阱的方法
    离子阱、量子计算机和用于生产离子阱的方法_伊莱克特伦有限公司_202480062073.5
    在至少一个实施方式中，离子阱(100)包括彼此间隔开的第一永磁体(1)和第二永磁体(2)。离子阱被配置成捕获离子(6)，使得离子沿着预定义线(7)对准。永磁体的磁矩指向相同方向。永磁体被布置成使得由永磁体产生的磁场的大小沿着预定义线改变。
    2026-05-01
  • 离子阱和量子计算机系统
    离子阱和量子计算机系统_伊莱克特伦有限公司_202480062551.2
    提供了离子阱(1)，包括‑第一永磁体(2)，以及‑第二永磁体(3)，其在横向方向上与第一永磁体(2)间隔开，其中，‑第一永磁体(2)的厚度(4)和第二永磁体(3)的厚度(4)彼此相等，‑第一永磁体(2)和第二永磁体(3)被配置成沿着捕获轴(...
    2026-05-01
  • 屏蔽电缆及其制造方法
    屏蔽电缆及其制造方法_3M创新有限公司_202480063138.8
    一种屏蔽电缆包括多个导体组，该多个导体组沿着电缆的长度延伸并且基本上被多个导电内屏蔽件一一对应地围绕。导体组和内屏蔽件组合地基本上被导电外屏蔽件围绕。导体组中的每一者包括沿着电缆的长度延伸的两个或更多个绝缘导体。该两个或更多个绝缘导体中的每...
    2026-05-01
  • 超高频用柔性金属层叠膜的制造方法及基于其制造的柔性金属层叠膜
    超高频用柔性金属层叠膜的制造方法及基于其制造的柔性金属层叠膜_先技高科技有限公司_202480061346.4
    本发明涉及柔性金属层叠膜的制造方法，更具体地，涉及一种旨在确保低介电材料与金属电极层间稳定性的超高频用柔性金属层叠膜的制造方法。
    2026-05-01
  • Sm-Fe-N系磁铁
    Sm-Fe-N系磁铁_株式会社村田制作所_202480062519.4
    本发明提供一种Sm‑Fe‑N系磁铁，包含：第1晶粒以及第2晶粒，第1晶粒含有钐、铁和氮的晶粒且含有9原子%以上且小于13原子%的钐，第2晶粒含有13原子%以上的钐；在上述第2晶粒的相邻粒子间的平均距离的分布中，累积频率为50%的相邻粒子间的...
    2026-05-01
  • 电容器、电路、电路板、设备以及电容器的制造方法
    电容器、电路、电路板、设备以及电容器的制造方法_松下知识产权经营株式会社_202580005022.3
    电容器1a具备金属钽20和电介质层10。电介质层10覆盖金属钽且包含钽氧化物。电介质层10含有氟和磷。电介质层10例如具备第一部位11和第二部位12。第一部位11是在电介质层10的厚度方向上远离金属钽20的部位。第二部位12是在电介质层10...
    2026-05-01
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