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最新专利技术
  • PVD镀件重工的方法及PVD镀件重工制品
    PVD镀件重工的方法及PVD镀件重工制品_富联科技(兰考)有限公司_202511913217.6
    本申请公开了一种PVD镀件重工的方法及PVD镀件重工制品，PVD镀件重工的方法包括：提供金属件，金属件包括金属基材、阳极氧化膜层以及PVD膜层，金属基材的表面具有腐蚀区域，阳极氧化膜层覆盖包括腐蚀区域的金属基材的表面，PVD膜层覆盖阳极氧化...
    2026-04-18
  • 传热系数可变的中置百叶窗及其铝合金百叶的制备方法
    传热系数可变的中置百叶窗及其铝合金百叶的制备方法_四川大学_202411398070.7
    本发明公开了传热系数可变的中置百叶窗及其铝合金百叶的制备方法，制备方法包括以下步骤：S1、在铝合金百叶的两端开设通孔；S2、对铝合金百叶预处理去除氧化层；S3、铝合金百叶从内到外的顺序，依次沉积TiO2、Ag、Ti、TiO2、ZrO2五层膜...
    2026-04-18
  • 一种含δ-MoN氮化钼基涂层及其制备方法和应用
    一种含δ-MoN氮化钼基涂层及其制备方法和应用_广东工业大学_202610117970.2
    本发明公开了一种含δ‑MoN氮化钼基涂层，含δ‑MoN氮化钼基涂层中Mo含量为45‑60at.%，N含量为30‑45at.%，Cu含量为0‑15at.%。本发明具有以下优点和效果：δ‑MoN氮化钼基涂层的易氧化性能快速形成润滑减摩的摩擦膜,...
    2026-04-18
  • 用于狭缝涂布模具表面的DLC基涂层材料及其制备方法
    用于狭缝涂布模具表面的DLC基涂层材料及其制备方法_上海理工大学_202511908299.5
    本发明公开了一种用于狭缝涂布模具表面的DLC基涂层材料及其制备方法。所述DLC基涂层材料包含元素Al、C构成Al‑DLC涂层材料或包含元素Al、C、N构成Al/N‑DLC涂层材料。制备方法为：采用非平衡磁控溅射技术，通过溅射石墨靶、Cr靶和...
    2026-04-18
  • 掩膜板及蒸镀装置
    掩膜板及蒸镀装置_京东方科技集团股份有限公司_202610048933.0
    本申请公开了一种掩膜板及蒸镀装置，属于显示技术领域。本申请提供的掩膜板包括：层叠设置的第一掩膜层和第二掩膜层，第一掩膜层具有多个开孔，第二掩膜层包括围绕多个开孔分布的多个支撑部。由于在第一边界的延伸方向上，第一支撑部的宽度由第一支撑部的一端...
    2026-04-18
  • 一种MEMS探针局部表面镀膜方法、应用和装置
    一种MEMS探针局部表面镀膜方法、应用和装置_强一半导体(苏州)股份有限公司_202511950048.3
    本申请提供了一种MEMS探针局部表面镀膜方法、应用和装置，其中方法包括：制备适配掩膜，将掩膜与MEMS探针对位固定，通过将沉积源设于两个垂直相邻面的法线之间，使沉积方向朝向两者相交位置，让沉积粒子束能同时覆盖两个垂直面，无需分步骤分次镀膜，...
    2026-04-18
  • 沉积掩模、制造沉积掩模的方法和电子装置
    沉积掩模、制造沉积掩模的方法和电子装置_三星显示有限公司_202511396344.3
    本公开涉及沉积掩模、制造沉积掩模的方法和电子装置。沉积掩模包括：掩模框架，具有单元开口；中间无机膜，设置在所述掩模框架上；以及隔膜，设置在所述中间无机膜上并且具有与所述单元开口连通的多个像素开口。所述中间无机膜由包括锗的材料形成。
    2026-04-18
  • 沉积掩模、制造沉积掩模的方法和电子装置
    沉积掩模、制造沉积掩模的方法和电子装置_三星显示有限公司_202511244654.3
    公开了一种沉积掩模、一种制造沉积掩模的方法和一种电子装置。沉积掩模包括：掩模框架，具有单位开口；膜，具有设置在单位开口上的多个像素开口，并且膜设置在掩模框架上；以及第一加强构件，设置在单位开口的上内侧表面上，连接到膜，并且在平面图中具有环形...
    2026-04-18
  • 掩模组件、制造掩模组件的方法以及使用掩模组件制造的电子装置
    掩模组件、制造掩模组件的方法以及使用掩模组件制造的电子装置_三星显示有限公司_202511118515.6
    提供了掩模组件、制造掩模组件的方法以及使用掩模组件制造的电子装置，所述掩模组件包括：掩模框架，包括第一开口部分，并且包括掺杂有N掺杂剂的第一部分；以及掩模，设置在掩模框架上，并且包括与第一开口部分叠置的多个第二开口部分。
    2026-04-18
  • 一种空心阴极放电复合稀土氧化物辅助增强离子渗碳的方法
    一种空心阴极放电复合稀土氧化物辅助增强离子渗碳的方法_中国船舶集团有限公司第七〇三研究所_202610051002.6
    一种空心阴极放电复合稀土氧化物辅助增强离子渗碳的方法，该方法采用空心阴极放电复合稀土氧化物实现增强离子渗碳。空心阴极放电是利用一平行放置于金属样件被渗面对面的辅助阴极来实现，辅助阴极为与金属样件同质的仿形阴极；稀土氧化物为颗粒状氧化钇、氧化...
    2026-04-18
  • 一种用于提高合金晶界强度的热处理方法
    一种用于提高合金晶界强度的热处理方法_济南钢纳材料科技有限公司_202610184241.9
    本发明涉及金属材料改性技术领域，公开了一种用于提高合金晶界强度的热处理方法，包括：在石墨盒底部铺设由反应前驱体粉末填充于骨架颗粒间隙构成的固态气相发生源，并在其上方堆积与工件化学成分一致的同质金属或合金碎屑作为牺牲型过滤层；将工件与石墨盒保...
    2026-04-18
  • 一种泵马达伺服活塞材料及其制备方法
    一种泵马达伺服活塞材料及其制备方法_潍柴动力股份有限公司_202610306327.4
    本发明提供了一种泵马达伺服活塞材料及其制备方法，属于表面处理技术领域。所述泵马达伺服活塞材料包括42CrMoW3Mo2基体和设置在所述42CrMoW3Mo2基体表面的TiAlN涂层，所述42CrMoW3Mo2基体的表层为渗碳层。本发明的泵马...
    2026-04-18
  • 不锈钢制品防酸性腐蚀的处理方法
    不锈钢制品防酸性腐蚀的处理方法_江苏奈飞科技发展有限公司_202511889153.0
    本申请涉及一种不锈钢制品防酸性腐蚀的处理方法，包括如下步骤：预处理：对不锈钢制品的表面进行预处理，以清洁表面并使表面获得符合要求的镜面效果；臭氧处理：将预处理后的不锈钢制品置于臭氧装置中利用臭氧气体或臭氧水溶液进行臭氧处理，以在不锈钢制品表...
    2026-04-18
  • 一种非晶氮化物预镀膜促进渗氮的工艺方法
    一种非晶氮化物预镀膜促进渗氮的工艺方法_盐城工学院_202610091205.8
    一种非晶氮化物预镀膜促进渗氮的工艺方法，属于化学热处理领域。针对现有的预镀金属层与渗氮的复合工艺并未有效地促使氮元素向基体内渗入的问题，为在更短时间内达到更大的渗氮层深度，降低生产成本，同时提高渗氮层硬度，本发明提出一种预镀非晶氮化物薄膜与...
    2026-04-18
  • 一种钻杆的隔热涂层及其制备方法
    一种钻杆的隔热涂层及其制备方法_北京化工大学_202610082247.5
    本发明属于材料技术领域，具体为一种钻杆的隔热涂层及其制备方法，包括氧化锆‑莫来石复合粉35‑45份；空心莫来石微球13‑17份；钛酸镁‑碳化硅复合粉10‑14份；硅烷改性气凝胶粉6‑10份；莫来石晶须6‑8份；NiCrAlY合金粉7‑9份；...
    2026-04-18
  • 一种纳米颗粒改性金属/陶瓷复合涂层及其制备方法
    一种纳米颗粒改性金属/陶瓷复合涂层及其制备方法_河北石油职业技术大学_202610059251.X
    本发明涉及涂层技术领域，特别是涉及一种纳米颗粒改性金属/陶瓷复合涂层及其制备方法。所述复合涂层包括：基础粉料、添加剂和改性剂；所述改性剂的质量占纳米颗粒改性金属/陶瓷复合涂层质量的0.5%‑5%。本发明以MgO和MoO3作为改性剂，并将添加...
    2026-04-18
  • 一种金属涂层分层缺陷的制备方法
    一种金属涂层分层缺陷的制备方法_北京星航机电装备有限公司_202512012047.0
    本发明涉及一种金属涂层分层缺陷的制备方法，属于无损检测技术领域，解决了现有“插片抽拔法”缺陷位置受限、易损伤薄涂层及参数控制精度差的问题。包括：确定预置缺陷的目标几何参数；采用脉冲激光在金属基体指定位置刻蚀出与之匹配的盲孔式凹槽，并控制深度...
    2026-04-18
  • 一种直流支撑电容器元件喷金质量控制装置及动态数据分析方法
    一种直流支撑电容器元件喷金质量控制装置及动态数据分析方法_国网电力科学研究院武汉南瑞有限责任公司_202512019327.4
    本发明公开了一种直流支撑电容器元件喷金质量控制装置及动态数据分析方法，属于电容器制造技术领域。该装置包括：传感器组，设置于喷金设备的每个喷枪回路上，用于采集每个喷枪的电压、电流、气压和空气湿度参数；喷枪状态检测模块，用于采集每个喷枪的工作状...
    2026-04-18
  • 一种活性电弧喷涂制备导磁涂层的方法
    一种活性电弧喷涂制备导磁涂层的方法_浙江巴顿焊接技术研究院_202511974488.2
    本发明公开了一种活性电弧喷涂制备导磁涂层的方法，该方法包括：首先使用有机溶剂对非导磁基体进行去油污清理，并对其表面进行干燥处理；然后通过喷砂粗化对非导磁基体的表面进行粗化处理，以使其粗糙度Ra≥2.5μm；最后使用活性电弧喷枪在非导磁基体上...
    2026-04-18
  • 一种核壳结构氟化钇-钇氧氟化合物复合喷涂粉的制备方法
    一种核壳结构氟化钇-钇氧氟化合物复合喷涂粉的制备方法_安徽高芯众科半导体有限公司_202512053413.7
    本申请涉及一种核壳结构氟化钇‑钇氧氟化合物复合喷涂粉的制备方法，涉及材料制备领域，包括以下步骤：使用YCl3·6H2O配制YCl3溶液；向YCl3溶液中加入YF3粉体，调节pH至3.8‑4.5，加入尿素溶液升温搅拌反应后，在YF3粉体表面沉...
    2026-04-18
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