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纺织,织造,皮革制品制作工具,设备的制造及其制品技术处理方法
  • 一种持久稳定特高压井口装置
    一种持久稳定特高压井口装置_建湖县杰林石化机械有限公司_202511041687.8
    本发明涉及油气开采设备技术领域，具体公开了一种持久稳定特高压井口装置，包括油管头四通、采油气树、连接组件及辅助组件。通过在采油气树中设置压力式震动管件，并结合震动监测与调节系统，避免共振；采用多层复合密封结构和双层密封环提升密封性能；利用加...
    2026-04-17
  • 一种分频控制的射频电源固态阻抗匹配器及其方法
    一种分频控制的射频电源固态阻抗匹配器及其方法_广东工业大学_202511089458.3
    本发明公开了一种分频控制的射频电源固态阻抗匹配器及其方法，旨在解决传统机械式阻抗匹配器响应慢、调节精度低、难以适应动态负载的问题。该系统采用全固态阻抗匹配器，由可调电感模块与开关电容模块组成的匹配网络实现阻抗动态调节，结合射频信号检测模块与...
    2026-04-17
  • 电子设备及其控制方法
    电子设备及其控制方法_佳能株式会社_202180059955.2
    一种电子设备，包括在第一侧的第一镜头和第二镜头，所述第二镜头具有与所述第一镜头的视角不同的视角，所述电子设备包括：切换单元，其被配置为切换经由所述第一镜头的第一摄像以及经由所述第二镜头的第二摄像；以及控制单元，其被配置为控制与多个摄像模式各...
    2026-04-17
  • 用于优化无掩膜光刻机线宽均匀性的方法及光刻系统
    用于优化无掩膜光刻机线宽均匀性的方法及光刻系统_上海微铁克光电设备有限公司_202610127516.5
    本发明提供了一种用于优化无掩膜光刻机线宽均匀性的方法及光刻系统，该方法首先通过曝光并测量特定测试图形，获取曝光区域内各位置的线宽分布数据；然后基于该数据计算出补偿能量分布不均所需的光刻数据调整量；最后通过调整目标产品光刻图形数据中相应像素的...
    2026-04-17
  • 一种万向转动的龙头花洒
    一种万向转动的龙头花洒_开平市越燊卫浴科技有限公司_202520785117.9
    本实用新型公开了一种万向转动的龙头花洒，包括花洒头、连接管、第一连接头、第二连接头与安装接头，所述花洒头与所述第一连接头连接，所述安装接头与所述第二连接头连接，所述连接管的两端分别设有第一球头与第二球头，所述第一球头与所述第一连接头转动连接...
    2026-04-17
  • 一种光学投影装置
    一种光学投影装置_东莞市和创光学科技有限公司_202520111169.8
    本实用新型公开了一种光学投影装置，涉及投影结构技术领域，包括外壳、菲林片、聚光透镜和成像镜头，所述聚光透镜和所述菲林片重叠设置在所述外壳内，所述成像镜头可拆卸地连接在所述外壳的一端，所述菲林片位于所述聚光透镜与所述成像镜头之间；本实用新型采...
    2026-04-17
  • 图像形成装置
    图像形成装置_富士胶片商业创新有限公司_202010910007.2
    本发明提供一种图像形成装置。图像形成装置具有：感光体单元，所述感光体单元具有感光体；显影装置，所述显影装置具有显影辊；间隔保持单元，所述间隔保持单元设置于所述感光体单元或所述显影装置，所述间隔保持单元将一部分与所述显影装置或所述感光体单元的...
    2026-04-17
  • 一种功率光电继电器模块及其组件
    一种功率光电继电器模块及其组件_聚源创富(深圳)半导体有限公司_202520419930.4
    本实用新型公开了一种功率光电继电器模块及其组件，属于电子技术领域，涉及光电继电器。其中，功率光电继电器模块含有多组串联的光电继电器单元，每个光电继电器单元由一个驱动芯片、两个功率MOS管和一个高压绝缘电阻组成，每个驱动芯片控制两个功率MOS...
    2026-04-17
  • 一种粉末成型机凹模伺服控制系统
    一种粉末成型机凹模伺服控制系统_南京理工大学_202311291013.4
    本发明涉及一种粉末成型机凹模伺服控制系统，包括液压源，所述液压源的出油管路和回油管路分别与电液伺服阀的P1口和T1口相连，电液伺服阀的A1口和B1口分别与复位油缸的下油口和上油口相连；所述液压源的出油管路和回油管路又分别与减压阀和第一溢流阀...
    2026-04-17
  • 激光直写系统刻写方法、装置及计算机设备
    激光直写系统刻写方法、装置及计算机设备_之江实验室_202310399542.X
    本申请涉及一种激光直写系统刻写方法、装置及计算机设备。所述激光直写系统包括图像传感模块、振镜、位移台，所述方法包括：确定所述位移台移动的第一距离与所述图像传感模块像素点对应移动的第二距离之间的第一关系；基于所述第一关系和预设系数确定振镜电压...
    2026-04-17
  • 一种点型光电感烟火灾探测器
    一种点型光电感烟火灾探测器_河南梁商消防设备有限公司_202520912518.6
    本实用新型涉及消防设备技术领域，尤其涉及一种点型光电感烟火灾探测器，包括安装座与壳体，安装座上设定位环，壳体装于定位环内，定位环装空心半球形顶盖，其开第一透气孔，壳体顶端开第二透气孔，内部有与第二透气孔对应的探测器，壳体与安装座经限位机构定...
    2026-04-17
  • 一种编码方法、Huffman解码方法、设备和介质
    一种编码方法、Huffman解码方法、设备和介质_湖南国科微电子股份有限公司_202511981520.X
    本发明提供一种编码方法、Huffman解码方法、设备和介质，涉及数据压缩技术领域，其中编码方法包括：获取目标码表；所述目标码表包括n个标识值，n个所述标识值用于指示原始编码范围中对应的n个原始编码值是否存在于所述目标码表对应的原始码表中；对...
    2026-04-17
  • 一种柔印版的制版工艺
    一种柔印版的制版工艺_上海柔丽科技有限公司_202411912862.1
    本发明公开了一种柔印版的制版工艺，该制版工艺包括以下步骤：S1 : 将待曝光基材以及图案板重叠后放置在曝光机内；S2：LED灯板高功率启动；S3：LED灯板从待曝光基材的前端平行移动至待曝光基材的后端；S4：LED灯板原地等待并降低其功率；...
    2026-04-17
  • 整车控制功能冗余实现方法、装置、车辆、介质及产品
    整车控制功能冗余实现方法、装置、车辆、介质及产品_重庆长安汽车股份有限公司_202610015808.X
    本发明涉及智能控制技术领域，公开了整车控制功能冗余实现方法、装置、车辆、介质及产品，本发明通过按驾驶功能划分软件功能模块，并将其与对应的冗余备份模块部署在不同算力中心，结合软件函数调用关系生成调度链路，异常时基于异常所关联的函数和冗余备份模...
    2026-04-17
  • 一种自动湿法除铁器
    一种自动湿法除铁器_玉环金宏机械制造有限公司_202520848468.X
    本实用新型属于除铁设备技术领域，特指一种自动湿法除铁器，包括前后开口且内部具有工作仓的壳体，壳体的前侧开口处盖设有前盖板、后侧开口处盖设有后盖板，所述壳体内设有套管和支撑套管的支撑板，所述套管设置有多个，且轴线沿纵向设置，套管前端封闭、后端...
    2026-04-17
  • 一种防跑尾磁选柱
    一种防跑尾磁选柱_鞍钢集团矿业设计研究院有限公司_202520468956.8
    本实用新型涉及一种防跑尾磁选柱，包括给矿斗、尾矿溢流槽、分选柱、电磁系、精矿口、给水管，所述的给矿斗设置在分选柱的顶部，其下部与分选柱连通，尾矿溢流槽设置在分选柱的上部，精矿口设置在分选柱的底部，电磁系套设在分选柱的外部，给水管插设在分选柱...
    2026-04-17
  • 一种多重冗余控制系统的时钟同步控制方法和系统
    一种多重冗余控制系统的时钟同步控制方法和系统_北京康吉森技术有限公司_202511816573.6
    本发明提出一种多重冗余控制系统的时钟同步控制方法和系统。涉及工业自动化控制技术领域。该方法包括：各控制器广播并接收同步时钟和同步脉冲；利用高频诊断时钟对时钟信号进行健康诊断；结合处理器状态及主备切换逻辑确定主备状态；根据健康状态及主备状态，...
    2026-04-17
  • 一种玻璃澄清复合助剂及其应用
    一种玻璃澄清复合助剂及其应用_黄山市晶特美新材料有限公司_202610128918.7
    本发明涉及玻璃制备技术领域，具体涉及一种玻璃澄清复合助剂及其应用。本发明提供的澄清复合助剂，包括硝酸盐、硫酸盐、氯化物以及锑化合物。本发明提供的澄清复合助剂，在玻璃熔制过程中起到较好的澄清均相作用，得到的玻璃无气泡、条纹等缺陷，且膨胀系数小...
    2026-04-17
  • 一种投影装置
    一种投影装置_王春兰_202521144888.6
    本申请提供一种投影装置，包括：主体；盖体，与主体活动连接；发光组件，发光组件能够发出光信号；菲林组件，设于出光信号的传输路径上；成像组件，用于对透过菲林组件的光信号进行成像，盖体盖设于主体时，成像组件设置于菲林组件背离发光组件的一侧；其中，...
    2026-04-17
  • 转移装置
    转移装置_三星显示有限公司_202520517115.1
    公开了一种转移装置，所述转移装置包括：光源部分，被构造为照射激光束；上台，设置在激光束的路径上，并且被构造为支撑转移基底；下台，被构造为支撑面对转移基底的目标基底；以及掩模，被构造为设置在目标基底上，并且面对转移基底，其中，掩模包括：基体层...
    2026-04-17
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