上海精珅新材料有限公司孙攀获国家专利权
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龙图腾网获悉上海精珅新材料有限公司申请的专利一种光学保护薄膜厚度测量方法、装置及系统获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN121677582B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-04-28发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202610196219.6，技术领域涉及：G01B11/06；该发明授权一种光学保护薄膜厚度测量方法、装置及系统是由孙攀;陈胜亮设计研发完成，并于2026-02-11向国家知识产权局提交的专利申请。
本一种光学保护薄膜厚度测量方法、装置及系统在说明书摘要公布了：本申请涉及厚度测量技术领域，具体涉及一种光学保护薄膜厚度测量方法、装置及系统，具体包括：通过对待测光学薄膜上各测量点处的反射光谱进行模态分解，分析高频模态分量的波动特征构建干涉对应指数；分析各测量点与其它测量点的对应模态分量之间的位序差异及干涉对应指数差异，判断各模态分量在多测量点位置的可重复性及位置一致性，结合干涉对应指数，构建干涉置信度；选取各测量点的最大干涉置信度对应的目标分量进行各测量点的薄膜厚度测量；能够精准识别各测量点的干涉信号对应的模态分量，避免外界干扰对干涉信号的识别存在较大误差，导致干涉信号误判的问题，提高光学薄膜厚度测量的精度。
本发明授权一种光学保护薄膜厚度测量方法、装置及系统在权利要求书中公布了：1.一种光学保护薄膜厚度测量方法，其特征在于，该方法包括以下步骤： 采集待测光学薄膜上各测量点处的反射光谱； 对各反射光谱进行模态分解，基于各模态分量的波动周期性，以及模态分量中波形振荡规律程度，构建各模态分量的干涉对应指数； 基于薄膜干涉光谱与光源光谱的信号频率差异特征进行模态分量筛选，得到目标分量；基于各测量点的各目标分量与其他测量点的各目标分量的干涉对应指数之间的差异，确定各测量点的各目标分量在其他测量点的目标分量中的对应目标分量；基于各目标分量与其对应目标分量的干涉对应指数差异及对应的模态分量位序差异，结合各目标分量的干涉对应指数，构建各目标分量的干涉置信度； 选取各测量点的最大干涉置信度对应的目标分量进行各测量点的薄膜厚度测量。
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2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。
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