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龙图腾网获悉北京航空航天大学申请的专利一种用于阵列式离子液体电喷推力器的微流道-多孔发射结构获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN121630671B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-04-28发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202610148845.8，技术领域涉及：F03H1/00；该发明授权一种用于阵列式离子液体电喷推力器的微流道-多孔发射结构是由王伟宗;白艺萌;杨元凯;张贻华设计研发完成，并于2026-02-03向国家知识产权局提交的专利申请。

本一种用于阵列式离子液体电喷推力器的微流道-多孔发射结构在说明书摘要公布了：本申请提供一种用于阵列式离子液体电喷推力器的微流道‑多孔发射结构，包括基底、发射构件、导流构件以及储存构件；本申请在相邻发射构件之间采用导流构件连通，且储存构件设置于导流构件，即实现了导流构件与储存构件的协作工作，当离子液体未完全喷发或出现回喷时，聚集在发射构件附近和基底时，导流构件能够将离子液体引导至储存构件中，并在存储构件中进行存储。相对于传统的阵列式电喷雾推力器没有采用特殊结构在阵列式基底表面防止溢出液体的结构而言，本申请采用的导流构件与储存构件协作的工作方式提高了溢出液体的收集和储存能力，保证发射极底部在大流量或长时间工作时没有多余液体聚集，保证推力器稳定产生推力。

本发明授权一种用于阵列式离子液体电喷推力器的微流道-多孔发射结构在权利要求书中公布了：1.一种用于阵列式离子液体电喷推力器的微流道-多孔发射结构，其特征在于，包括： 基底，其上以阵列形式形成有多个发射极点位； 发射构件，与所述发射极点位一一对应地设置于所述基底，且所述发射构件的发射端凸出于所述基底的上表面； 导流构件，设置于所述基底，且连通于相邻所述发射构件，以对由所述发射构件溢出的离子液体进行导流；以及 储存构件，设置于所述导流构件，能够对由所述导流构件导流的离子液体进行储存； 所述基底的上表面对应所述发射极点位的位置开设有朝向所述基底的下表面凹陷的槽体； 所述发射构件的发射端凸出于所述槽体的底壁； 所述导流构件包括导流槽；所述导流槽开设于所述基底，且所述导流槽的两端分别连通于相邻所述发射构件的所述槽体； 所述导流槽的底壁具有顺次连接的第一导流面、第二导流面以及第三导流面； 所述第一导流面与相邻的所述槽体之间的其中一个所述槽体的底壁以第一预设角度连接，且所述第三导流面与相邻的所述槽体之间的其中另一个所述槽体的底壁以第二预设角度连接； 所述第二导流面的一端以第三预设角度与所述第一导流面背离所述槽体的一端连接，且所述第二导流面的另一端以第四预设角度与所述第三导流面背离所述槽体的一端连接。

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