重庆京东方显示技术有限公司;京东方科技集团股份有限公司张坤获国家专利权
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龙图腾网获悉重庆京东方显示技术有限公司;京东方科技集团股份有限公司申请的专利一种膜层厚度控制装置获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN116356260B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-04-28发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202310404029.5，技术领域涉及：C23C14/24；该发明授权一种膜层厚度控制装置是由张坤;卿万梅;陈林设计研发完成，并于2023-04-14向国家知识产权局提交的专利申请。
本一种膜层厚度控制装置在说明书摘要公布了：本发明提供一种膜层厚度控制装置，包括：蒸镀基板；至少一个蒸镀点源，用于对蒸镀材料进行加热蒸发，以使气化的蒸镀材料粒子在蒸镀基板面向蒸镀点源的一面形成蒸镀膜层；遮挡板，设置在蒸镀基板与蒸镀点源之间；其中，遮挡板与蒸镀基板之间具有间隔，遮挡板在蒸镀基板上的正投影位于蒸镀基板内，且覆盖蒸镀点源在蒸镀基板上的正投影；旋转机构，连接蒸镀基板，用于带动蒸镀基板旋转，蒸镀基板在旋转过程中，遮挡板遮挡靠近蒸镀点源的蒸镀材料粒子形成到遮挡板，以在蒸镀基板上形成膜厚均匀的蒸镀膜层。旨在提供一种控制蒸镀基板上蒸镀材料粒子量的沉积量，以使在蒸镀基板上形成膜厚均匀的蒸镀膜层的控制装置。
本发明授权一种膜层厚度控制装置在权利要求书中公布了：1.一种膜层厚度控制装置，其特征在于，所述装置包括： 蒸镀基板； 至少一个蒸镀点源，用于对蒸镀材料进行加热蒸发，以使气化的蒸镀材料粒子在所述蒸镀基板面向所述蒸镀点源的一面形成蒸镀膜层； 遮挡板，设置在所述蒸镀基板与所述蒸镀点源之间；其中，所述遮挡板与所述蒸镀基板之间具有间隔，所述遮挡板在所述蒸镀基板上的正投影位于所述蒸镀基板内，且覆盖所述蒸镀点源在所述蒸镀基板上的正投影；所述遮挡板的宽度从远离蒸镀基板圆心的位置到蒸镀基板的旋转轴中心的位置逐渐变宽； 旋转机构，连接所述蒸镀基板，用于带动所述蒸镀基板旋转，所述蒸镀基板在旋转过程中，所述遮挡板遮挡靠近所述蒸镀点源的蒸镀材料粒子形成到所述遮挡板，以在所述蒸镀基板上形成膜厚均匀的蒸镀膜层；所述蒸镀基板与所述遮挡板同轴不同转速。
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