北京科技大学李子宜获国家专利权
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龙图腾网获悉北京科技大学申请的专利一种修补分子筛膜的方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN115999377B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-04-28发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202211619980.4，技术领域涉及：B01D65/10；该发明授权一种修补分子筛膜的方法是由李子宜;刘欣剑;刘应书;杨雄;刘文海设计研发完成，并于2022-12-15向国家知识产权局提交的专利申请。
本一种修补分子筛膜的方法在说明书摘要公布了：本发明属于分子筛膜修补领域，具体涉及一种修补分子筛膜的方法。所述方法采用NO2和SO2来修补分子筛膜。NO2分子在一定条件低温或高压下易于二聚形成N2O4，N2O4能够与SO2反应生成络合物ONONO‑SO3，该络合物能够与分子筛膜缺陷部位暴露的羟基形成较强的亲和力，从而堵塞分子筛膜孔道，起到修补分子筛膜的效果。对于六元环或八元环等小孔分子筛膜，因N2O4动力学直径大于其分子筛膜孔道直径，故不会进入其分子筛膜孔道，造成孔道堵塞。对于孔道直径较大的十元环或十二元环分子筛膜，因其分子筛膜孔径较大，对ONONO‑SO3络合物吸附作用不强，可以选择性加热解吸，故也不会造成孔道永久堵塞。
本发明授权一种修补分子筛膜的方法在权利要求书中公布了：1.一种修补分子筛膜的方法，其特征在于，所述方法是将含NO2和SO2的第一混合气体通入分子筛膜膜面进行修复，清除修复后的分子筛膜上多余的酸性物质后烘干，得到修复后的分子筛膜； 所述分子筛膜在固定装置中膜面朝向进气端，膜两端压力差为0.05~3MPa； 所述第一混合气体中NO2体积浓度为1~50%，SO2体积浓度为1~50%，余下为N2； 通入所述第一混合气体修复的反应温度为-50~200℃。
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