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龙图腾网获悉云南北方光学科技有限公司申请的专利具有选择性电磁屏蔽和高透过率的膜层系统及其制备方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN115867008B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-04-28发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202210981630.6，技术领域涉及：H05K9/00；该发明授权具有选择性电磁屏蔽和高透过率的膜层系统及其制备方法是由祝旭锋;程海娟;王元康;于闻;王柯;陈骥;杨永华;茹丘旭;陈蛟设计研发完成，并于2022-08-16向国家知识产权局提交的专利申请。

本具有选择性电磁屏蔽和高透过率的膜层系统及其制备方法在说明书摘要公布了：本发明公开了一种具有选择性电磁屏蔽和高透过率的膜层系统，包括有曲面光学窗口、电磁屏蔽功能膜、电极膜和红外增透膜；所述电磁屏蔽功能膜与电极膜的膜系材料、结构和厚度均相同；本发明的光学窗口采用曲面，并将功能涂层制备到光学窗口的凹面，封闭于系统内部，在实现与现有技术相同效果的同时，避免了任何功能涂层的外界暴露，彻底解决了外界环境带来的风沙、雨蚀、辐射对膜层的破坏，大幅提高了耐高低温、湿热等恶劣环境能力。

本发明授权具有选择性电磁屏蔽和高透过率的膜层系统及其制备方法在权利要求书中公布了：1.一种具有选择性电磁屏蔽和高透过率的膜层系统的制备方法，其特征在于：包括 以下步骤： 1在刻有周期为400±10μm，线宽为12±2μm网栅沟槽的洁净Ge基底上，采用物理气相沉积方法蒸镀电磁屏蔽功能膜，电磁屏蔽功能膜连接层、金属层和保护层材料分别为铬、铜、铬，厚度分别为10nm、400nm、20nm，蒸镀的参数为：蒸发温度120℃、铬蒸发速率0.3nms、铜蒸发速率为0.8nms，真空度3.0×10-3～9.0×10-4Pa，电子束束流72mA，真空通氧量8sccm； 2将镀制好电磁屏蔽功能膜的样件放入丙酮或N-甲基吡咯烷酮溶液中清洗，去除残余光刻胶，采用物理气相沉积的方式在零件边缘镀制电极，电极的连接层、金属层和保护层材料分别为铬、铜、铬，厚度分别为10nm、400nm、20nm，蒸镀的参数为：蒸发温度120℃、铬蒸发速率0.3nms、铜蒸发速率为0.8nms，真空度3.0×10-3～9.0×10-4Pa，电子束束流72mA，真空通氧量8sccm； 3采用物理气相沉积的方式在电磁屏蔽层上镀制红外增透膜，红外增透膜材料为OS-50和二氧化硅，厚度分别为23nm，163nm，蒸发温度200℃,OS-50蒸发速率0.3nms，二氧化硅蒸发速率0.8nms，真空度3.0×10-3～9.0×10-4Pa，OS-50真空通氧量8sccm，二氧化硅真空通氧量0sccm，OS-50电子束束流300mA，二氧化硅电子束束流100mA。

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