应用材料公司吴菅获国家专利权
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龙图腾网获悉应用材料公司申请的专利用于氢与氨等离子体应用的具有保护性陶瓷涂层的处理套件获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN115836378B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-04-28发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202180049466.9，技术领域涉及：H01J37/32；该发明授权用于氢与氨等离子体应用的具有保护性陶瓷涂层的处理套件是由吴菅;劳拉·哈夫雷查克;仁观·段;伯纳德·L·黄;马尔科姆·J·贝文;刘炜设计研发完成，并于2021-06-03向国家知识产权局提交的专利申请。
本用于氢与氨等离子体应用的具有保护性陶瓷涂层的处理套件在说明书摘要公布了：本文描述了一种用于使用氢等离子体处理的方法及设备。处理腔室包括多个腔室部件。多个腔室部件可用如Y2O3‑ZrO2固溶体的氧化钇锆组成物涂布。多个腔室部件中的一些腔室部件替换为块体氧化钇锆陶瓷。又一些腔室部件替换为不同材料的类似部件。
本发明授权用于氢与氨等离子体应用的具有保护性陶瓷涂层的处理套件在权利要求书中公布了：1.一种用于基板处理的设备包含： 腔室主体，包含下部腔室主体和上部腔室主体； 下部衬垫，在所述腔室主体内设置； 基板支撑基座，在所述腔室主体内设置； 上部衬垫，在所述下部衬垫顶上并且在所述腔室主体内设置； 衬垫门，穿过所述上部衬垫及所述腔室主体设置，其中所述下部衬垫、所述上部衬垫、及所述衬垫门中的每一者进一步包含上面设置的烧结层压的氧化钇锆层，其中所述烧结层压的氧化钇锆层包含喷涂的氧化钇锆层和在所述喷涂的氧化钇锆层顶上沉积的PVD涂布的氧化钇锆层； 腔室盖，在所述腔室主体顶上设置； 气体喷嘴，穿过所述腔室盖设置，其中所述气体喷嘴由块体氧化钇锆陶瓷制成；和 一个或多个镀镍垫圈，在所述下部腔室主体与所述上部腔室主体之间、在所述上部腔室主体与所述腔室盖之间、及在所述下部腔室主体与基板支撑基座之间设置。
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2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。
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