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龙图腾网获悉厦门大学申请的专利一种电流体近场直写射流引发的方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN115627546B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-04-28发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202211425412.0，技术领域涉及：D01D5/00；该发明授权一种电流体近场直写射流引发的方法是由海振银;孙道恒;何蓥平;郭茂成;赵扬;陈沁楠;何功汉设计研发完成，并于2022-11-15向国家知识产权局提交的专利申请。

本一种电流体近场直写射流引发的方法在说明书摘要公布了：本申请涉及一种电流体近场直写射流引发的方法，包括电流体直写设备，所述方法包括如下步骤：步骤一，采用直写设备进行远场直写，通过直写参数调控，在不产生放电击穿的前提下，确定在最小高度和最小供液流量下射流引发电压的临界值，实现远场射流的引发；步骤二，重复多次步骤一，在保证稳态射流的前提下，改变所述高度参数，记录多组所述高度、电压及供液流量等参数用于编辑程序，以获取所述高度、电压及供液流量的同步调节；步骤三，根据步骤一获取的参数进行最小电压下远场射流引发后，通过编辑程序，同一调节减小所述注射泵针尖与收集板的高度距离、所施加电压大小及供液流量，保证垂液的稳定，实现近场直写射流无中断、无击穿的引发。

本发明授权一种电流体近场直写射流引发的方法在权利要求书中公布了：1.一种电流体近场直写射流引发的方法，包括电流体直写设备，其特征在于：所述电流体直写设备包括收集板、微量进样器、精密注射泵、控温装置、控湿装置、二维运动平台及高压电源； 其中控温装置及控湿装置用于调控直写环境的温度及相对湿度；所述微量进样器用于计算、设置供液流量，并控制精密注射泵供液；高压电源用于提供稳定直流电压； 所述近场直写射流引发的方法包括如下步骤： 步骤一，采用电流体直写设备进行远场直写，通过所述运动平台调整所述收集板与所述精密注射泵针尖的高度距离，所述微量进样器控制所述精密注射泵提供最小供液流量形成稳定垂液并设置参数，所述稳定垂液为在不施加电压的条件下精密注射泵针尖末端垂液形成半月板形态，所述高压电源施加电压，电压从零开始上调直至空气被击穿或产生射流，产生射流时精密注射泵针尖末端垂液由半月板形态向锥形转变，多次调控所述高度距离、电压及供液流量参数，以获取远场直写射流引发的最小高度距离和在该最小高度距离下射流引发电压的临界值，实现最小电压下远场直写射流引发； 步骤二，重复多次步骤一，在保证稳态射流的前提下，改变所述高度距离，记录多组所述高度距离、电压及供液流量参数用于编辑程序，以实现所述高度距离、电压及供液流量的同步调节； 步骤三，根据步骤一获取的参数进行最小电压下远场直写射流引发后，通过编辑程序，同步减小所述精密注射泵针尖与收集板的高度距离、所施加电压大小及供液流量，保证垂液的稳定，实现近场直写射流无中断、无击穿的引发。

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