东京毅力科创株式会社广城幸吉获国家专利权
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龙图腾网获悉东京毅力科创株式会社申请的专利基板处理装置和基板处理方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN113782467B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-04-28发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202110597845.3，技术领域涉及：H10P72/00；该发明授权基板处理装置和基板处理方法是由广城幸吉;野中纯;高山和也;中森光则设计研发完成，并于2021-05-31向国家知识产权局提交的专利申请。
本基板处理装置和基板处理方法在说明书摘要公布了：本发明涉及基板处理装置和基板处理方法。提供如下技术：将基板用拒水剂拒水化，抑制基板的凹凸图案的倒塌、另外抑制拒水剂所导致的颗粒的发生。基板处理方法包括下述A～E。A将附着有处理液的基板搬入至处理容器的内部。B对前述搬入后的前述基板供给第1有机溶剂，将附着于前述基板的前述处理液去除。C对去除了前述处理液的前述基板供给拒水剂，将前述基板拒水化。D对前述拒水化了的前述基板供给第2有机溶剂。E使附着于前述基板的前述第2有机溶剂挥发，将前述基板干燥。
本发明授权基板处理装置和基板处理方法在权利要求书中公布了：1.一种基板处理方法，其包括如下步骤： 将附着有处理液的基板搬入至处理容器的内部的步骤； 对所述搬入后的所述基板供给第1有机溶剂，将附着于所述基板的所述处理液去除的步骤； 对去除了所述处理液的所述基板供给拒水剂，将所述基板拒水化的步骤； 对所述拒水化了的所述基板供给第2有机溶剂的步骤；和， 使附着于所述基板的所述第2有机溶剂挥发，将所述基板干燥的步骤， 其中，在对所述基板供给所述第1有机溶剂后、且对所述基板供给所述拒水剂前，包括：对所述基板供给不同于所述第1有机溶剂的第3有机溶剂，将附着于所述基板的所述第1有机溶剂去除的步骤， 所述第1有机溶剂具有OH基，所述第3有机溶剂不具有OH基， 其中，在对所述基板供给所述拒水剂后、且对所述基板供给所述第2有机溶剂前，包括：对所述基板供给所述第3有机溶剂，将未反应的所述拒水剂从所述基板去除的步骤， 所述第2有机溶剂具有OH基。
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