拓荆键科(海宁)半导体设备有限公司周贤炳获国家专利权
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龙图腾网获悉拓荆键科(海宁)半导体设备有限公司申请的专利化学液的排放控制系统、排放方法和半导体的清洗装置获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN120048755B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-04-24发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202311598557.5，技术领域涉及：H10P72/00；该发明授权化学液的排放控制系统、排放方法和半导体的清洗装置是由周贤炳设计研发完成，并于2023-11-27向国家知识产权局提交的专利申请。
本化学液的排放控制系统、排放方法和半导体的清洗装置在说明书摘要公布了：本发明公开了一种化学液的排放控制系统、排放方法以及半导体的清洗装置。排放控制系统包括：第一传感器，设于工艺腔内，用以检测工艺腔内是否存在化学液，其中，化学液至少包括第一化学液和第二化学液；排放阀组，设于暂存区的下游，暂存区用以承接从所述工艺腔流入的化学液，至少包括第一排放阀和第二排放阀，其中，第一排放阀导通以排放第一化学液，第二排放阀导通以排放第二化学液；以及第二传感器，设于暂存区内，当第二传感器检测到暂存区内没有第一化学液时，关闭第一排放阀，并向工艺腔内通入第二化学液。通过上述排放控制系统，不仅能够将不同的化学液分类排放，减少废液污染，并且还能够提升整体工艺效率，缩短化学液的排放时长。
本发明授权化学液的排放控制系统、排放方法和半导体的清洗装置在权利要求书中公布了：1.一种化学液的排放控制系统，应用于半导体的清洗设备中，其特征在于，包括： 第一传感器，设于工艺腔内，用以检测所述工艺腔内是否存在化学液，其中，所述化学液至少包括第一种化学液和第二种化学液； 排放阀组，设于暂存区的下游，所述暂存区用以承接从所述工艺腔流入的化学液，至少包括第一排放阀和第二排放阀，其中，所述第一排放阀导通以排放所述第一种化学液，所述第二排放阀导通以排放所述第二种化学液； 导液阀组，设于所述工艺腔和所述暂存区之间，用以控制所述工艺腔内的化学液流入所述暂存区，当所述第一传感器检测到所述工艺腔内存在所述第一种化学液，打开所述导液阀组，以使所述第一种化学液流入所述暂存区，当所述第一传感器没有检测到所述第一种化学液时，关闭所述导液阀组，并向所述工艺腔内通入所述第二种化学液；以及 第二传感器，设于所述暂存区内，当所述第二传感器检测到所述暂存区内没有所述第一种化学液时，关闭所述第一排放阀。
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