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龙图腾网获悉常州艾恩希纳米镀膜科技有限公司申请的专利一种PVD复合涂层及其制备方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN120041828B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-04-24发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202510246408.5，技术领域涉及：C23C28/00；该发明授权一种PVD复合涂层及其制备方法是由冯磊设计研发完成，并于2025-03-04向国家知识产权局提交的专利申请。

本一种PVD复合涂层及其制备方法在说明书摘要公布了：本申请涉及金属材料镀层技术领域，尤其涉及一种PVD复合涂层及其制备方法；所述制备方法包括：将金属基体预处理，得到预处理基体；使用复合靶材在预处理基体表面磁控溅射沉积、多次等离子喷涂和激光织构化，并重复上述过程形成含有第三稀土掺杂高熵合金涂层的复合涂层粗品；将复合涂层粗品后处理，得到复合涂层；其中，复合靶材为AlCoCrFeNi‑Y，所述复合氧化物包括氧化铝、氧化钛和氧化铈。该制备方法通过磁控溅射沉积稀土掺杂高熵合金涂层、等离子喷涂形成梯度含量的复合陶瓷涂层、激光织构化处理以及多层涂层的交替构建等，结合精心选择的具有低膨胀系数的材料，能够显著提高复合涂层的结合强度、硬度和强度。

本发明授权一种PVD复合涂层及其制备方法在权利要求书中公布了：1.一种PVD复合涂层的制备方法，其特征在于，所述制备方法包括： 将金属基体进行预处理，得到预处理基体； 使用含有稀土元素的复合靶材在所述预处理基体表面进行磁控溅射沉积，得到第一稀土掺杂高熵合金涂层； 使用复合氧化物在所述第一稀土掺杂高熵合金涂层的表面进行多次等离子喷涂，得到梯度含量的第一复合陶瓷涂层； 将所述第一复合陶瓷涂层进行激光织构化，以在所述第一复合陶瓷涂层的表面形成蜂窝状微结构，得到第一处理层； 使用含有稀土元素的所述复合靶材在所述第一处理层的表面进行所述磁控溅射沉积，得到第二稀土掺杂高熵合金涂层； 使用所述复合氧化物在所述第二稀土掺杂高熵合金涂层的表面进行多次所述等离子喷涂，得到梯度含量的第二复合陶瓷涂层； 将所述第二复合陶瓷涂层进行所述激光织构化，以在所述第二复合陶瓷涂层的表面形成蜂窝状微结构，得到第二处理层； 使用含有稀土元素的所述复合靶材在所述第二处理层的表面进行所述磁控溅射沉积，得到含有第三稀土掺杂高熵合金涂层的复合涂层粗品； 将所述复合涂层粗品进行后处理，得到复合涂层； 其中，所述复合靶材为AlCoCrFeNi-Y，所述复合氧化物包括氧化铝、氧化钛和氧化铈；所述氧化铝的质量m1、所述氧化钛的质量m2和所述氧化铈的质量m3满足关系式m1:m2:m3=85～75：5～15:10；所述第一复合陶瓷涂层的氧化钛的质量含量呈逐渐递增的状态分布，相邻两个所述氧化钛的质量含量之间的差值为2%～5%； 所述第二复合陶瓷涂层的氧化钛的质量含量呈逐渐递减的状态分布，相邻两个所述氧化钛的质量含量之间的差值为2%～5%； 所述第一稀土掺杂高熵合金涂层、所述第二稀土掺杂高熵合金涂层和所述第三稀土掺杂高熵合金涂层的稀土元素的质量含量为1.5%～2.5%；所述第一稀土掺杂高熵合金涂层、所述第二稀土掺杂高熵合金涂层和所述第三稀土掺杂高熵合金涂层的厚度分别为5μm～10μm； 所述第一复合陶瓷涂层的厚度h1和所述第二复合陶瓷涂层的厚度h2满足关系式：h1+h2=45μm～55μm； 所述第一处理层和所述第二处理层的单个蜂窝状微结构的孔径为15μm～25μm，所述第一处理层和所述第二处理层的单个蜂窝状微结构的深度为3μm～5μm； 所述激光织构化的脉冲能量为35μJ～45μJ，所述激光织构化的重复频率为100kHz～500kHz，所述激光织构化的扫描速度为100mms～1000mms，所述激光织构化的光斑直径为15μm～25μm。

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