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龙图腾网获悉哈尔滨工业大学申请的专利一种基于熔池形状调控的激光梯度沉积与重熔的单晶修复方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN117821965B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-04-24发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202410012462.9，技术领域涉及：C23C24/10；该发明授权一种基于熔池形状调控的激光梯度沉积与重熔的单晶修复方法是由雷正龙;付伟杰;张新瑞;王晨;孙浩然;李旭东设计研发完成，并于2024-01-04向国家知识产权局提交的专利申请。

本一种基于熔池形状调控的激光梯度沉积与重熔的单晶修复方法在说明书摘要公布了：一种基于熔池形状调控的激光梯度沉积与重熔的单晶修复方法，本发明属于激光熔化沉积技术领域。本发明要解决现有单晶高温合金激光修复方法无法同时消除不同生长方向的枝晶转向交汇处杂晶、沉积层侧壁杂晶以及沉积层顶部杂晶的问题。方法：一、预处理；二、固定；三、过渡层的梯度沉积与逐层重熔；四、正式层的沉积与逐层重熔。本发明用于基于熔池形状调控的激光梯度沉积与重熔的单晶修复。

本发明授权一种基于熔池形状调控的激光梯度沉积与重熔的单晶修复方法在权利要求书中公布了：1.一种基于熔池形状调控的激光梯度沉积与重熔的单晶修复方法，其特征在于它是按照以下步骤进行的： 一、预处理： 将单晶高温合金待修复表面加工成与001晶面保持平行，然后打磨、清洗并烘干，得到预处理后的单晶试件； 二、固定： 将预处理后的单晶试件固定在夹具上并置于氩气环境中； 三、过渡层的梯度沉积与逐层重熔： ①在激光功率为200W～800W、激光扫描速度为5mms～20mms、离焦量为-8mm～+8mm、送粉量为5gm～20gm及单层抬升量为0.1mm～0.2mm的条件下，对预处理后的单晶试件待修复表面进行沉积，得到过渡沉积层； ②在激光功率为300W～1000W、激光扫描速度为10mms～25mms及离焦量为-8mm～+8mm的条件下，对过渡沉积层进行重熔，得到完成一次过渡层沉积的试件； ③将完成一次过渡层沉积的试件按步骤三①及②重复1次～3次，且随着沉积进行逐层提高步骤①沉积的激光功率，得到完成过渡层沉积的试件； 四、正式层的沉积与逐层重熔： ①在激光功率为300W～1000W、激光扫描速度为5mms～20mms、离焦量为-8mm～+8mm、送粉量为5gm～20gm及单层抬升量为0.2mm～0.4mm的条件下，对完成过渡层沉积的试件待修复表面进行沉积，得到正式沉积层； ②在激光功率为500W～1200W、激光扫描速度为10mms～25mms及离焦量为-8mm～+8mm的条件下，对正式沉积层进行重熔，得到完成一次正式层沉积的试件； ③将完成一次正式层沉积的试件按步骤四①及②重复至所需高度或层数，即完成基于熔池形状调控的激光梯度沉积与重熔的单晶修复方法。

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