纽富来科技股份有限公司森田博文获国家专利权
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龙图腾网获悉纽富来科技股份有限公司申请的专利带电粒子束描绘装置获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN115202158B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-04-24发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202210380939.X，技术领域涉及：G03F7/20；该发明授权带电粒子束描绘装置是由森田博文;东矢高尚设计研发完成，并于2022-04-12向国家知识产权局提交的专利申请。
本带电粒子束描绘装置在说明书摘要公布了：本发明提供能够同时解决二次电子的空间滞留与偏转器电极带电引起的射束位置的变动的带电粒子束描绘装置。本实施方式的带电粒子束描绘装置具备：调整照射到描绘对象的基板的带电粒子束的照射位置的定位偏转器；固定偏转器，配置于比所述定位偏转器靠所述带电粒子束的行进方向的下游侧的位置，被固定了偏转量；配合于所述基板的表面高度地进行所述带电粒子束的焦点校正的焦点校正透镜以及将所述带电粒子束的焦点对焦的物镜。
本发明授权带电粒子束描绘装置在权利要求书中公布了：1.一种带电粒子束描绘装置，具备： 定位偏转器，调整照射到描绘对象的基板上的带电粒子束的照射位置； 固定偏转器，配置于比所述定位偏转器靠所述带电粒子束的行进方向的下游侧的位置，所述固定偏转器的偏转量在描绘处理中被固定； 焦点校正透镜，配合于所述基板的表面高度地进行所述带电粒子束的焦点校正；以及 物镜，将所述带电粒子束的焦点对焦， 所述焦点校正透镜是静电透镜，相对于所述基板的表面在正的电压范围内动作， 所述固定偏转器具备静电型偏转器，构成所述静电型偏转器的多个电极各自被施加的电压上被加上了相对于所述基板的表面为正的共用电压， 所述正的共用电压大于等于被施加到所述焦点校正透镜上的电压， 所述焦点校正透镜配置于比所述定位偏转器靠所述带电粒子束的所述行进方向的下游侧的位置， 所述固定偏转器配置于比所述焦点校正透镜靠所述带电粒子束的所述行进方向的上游侧的位置。
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