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龙图腾网获悉东京毅力科创株式会社申请的专利基板处理方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN113937031B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-04-24发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202110768432.7，技术领域涉及：H10P72/00；该发明授权基板处理方法是由立花康三;森川胜洋;水永耕市设计研发完成，并于2021-07-07向国家知识产权局提交的专利申请。

本基板处理方法在说明书摘要公布了：本公开涉及一种基板处理方法。基板处理方法包括以下工序：液膜形成工序，一边使旋转台以第一速度旋转，一边向基板的中心部供给药液，由此使得基板的表面的整体被具有第一厚度的药液的液膜覆盖；液膜厚度调整工序，在液膜形成工序之后，一边使旋转台以比所述第一速度低的第二速度旋转，一边向基板的中心部供给药液，由此使得基板的表面的整体被具有比第一厚度大的第二厚度的药液的液膜覆盖；以及液膜加热工序，在液膜厚度调整工序之后，在使旋转台以比第二速度低的第三速度旋转的状态、或者使旋转台的旋转停止的状态下，利用电加热器来加热旋转台，由此加热基板和覆盖基板的药液的液膜。

本发明授权基板处理方法在权利要求书中公布了：1.一种基板处理方法，是使用基板处理装置执行的基板处理方法，所述基板处理装置具备：旋转台，其将基板保持为水平姿势并且用于使所述基板绕铅垂轴线旋转；电加热器，其以与所述旋转台一同旋转的方式设置于所述旋转台，用于对被载置于所述旋转台上的所述基板进行加热；至少一个处理液喷嘴，至少一个所述处理液喷嘴用于向保持于所述旋转台的所述基板的表面供给处理液；以及处理液供给机构，其用于向所述处理液喷嘴供给所述处理液，所述基板处理方法包括以下工序： 基板保持工序，使所述基板保持于旋转台； 液膜形成工序，一边使所述旋转台以第一速度旋转，一边向所述基板的中心部供给作为所述处理液的药液，由此使得所述基板的表面的整体被具有第一厚度的所述药液的液膜覆盖； 液膜厚度调整工序，在所述液膜形成工序之后，一边使所述旋转台以比所述第一速度低的第二速度旋转，一边向所述基板的中心部供给所述药液，由此使得所述基板的表面的整体被具有比所述第一厚度大的第二厚度的所述药液的液膜覆盖；以及 液膜加热工序，在所述液膜厚度调整工序之后，在使所述旋转台以所述第二速度以下的第三速度旋转的状态、或者使所述旋转台摇动旋转的状态、或者使所述旋转台的旋转停止的状态下，利用所述电加热器来加热所述旋转台，由此加热所述基板和覆盖所述基板的所述药液的液膜来促进所述药液与所述基板的表面之间的反应。

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