豪雅株式会社;凸版光掩模有限公司前田仁获国家专利权
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龙图腾网获悉豪雅株式会社;凸版光掩模有限公司申请的专利掩模坯料及转印用掩模的制造方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN115244459B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-04-21发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202180019112.X，技术领域涉及：G03F1/32；该发明授权掩模坯料及转印用掩模的制造方法是由前田仁;谷口和丈;松井一晃;米丸直人设计研发完成，并于2021-02-16向国家知识产权局提交的专利申请。
本掩模坯料及转印用掩模的制造方法在说明书摘要公布了：本发明提供能够在提高图案分辨率、CD面内均匀性及CD线性的同时抑制硬掩模膜整体的蚀刻速率降低的掩模坯料。该掩模坯料具备在透光性基板上依次层叠有图案形成用薄膜和硬掩模膜的结构，其中，上述薄膜由含有铬的材料形成，上述硬掩模膜包含下层与上层的层叠结构，上述下层由含有硅和氧的材料形成，上述上层由含有钽和氧、且上述氧的含量为30原子％以上的材料形成，上述上层的厚度相对于上述硬掩模膜整体的厚度的比率为0.7以下。
本发明授权掩模坯料及转印用掩模的制造方法在权利要求书中公布了：1.一种掩模坯料，其具备在透光性基板上依次层叠有图案形成用薄膜和硬掩模膜的结构，其中， 所述薄膜由含有铬的材料形成， 所述硬掩模膜包含下层与上层的层叠结构， 所述下层由含有硅和氧的材料形成， 所述上层由含有钽和氧、且所述氧的含量为30原子％以上的材料形成， 所述上层的厚度相对于所述硬掩模膜整体的厚度的比率为0.7以下。
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2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。
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