卡尔斯鲁厄技术研究所M·布莱克获国家专利权
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龙图腾网获悉卡尔斯鲁厄技术研究所申请的专利光耦合点的定位获国家发明授权专利权,本发明授权专利权由国家知识产权局授予,授权公告号为:CN115210622B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-04-21发布的发明授权授权公告中获悉:该发明授权的专利申请号/专利号为:202180019068.2,技术领域涉及:G02B6/42;该发明授权光耦合点的定位是由M·布莱克;P-I·迪特里希;C·库斯设计研发完成,并于2021-03-04向国家知识产权局提交的专利申请。
本光耦合点的定位在说明书摘要公布了:本发明涉及用于定位光耦合点11的方法和装置200,以及用于在光耦合点11处产生微结构100的方法。用于定位光耦合点11的方法包括以下步骤:a提供光学部件10,所述光学部件包括光耦合点11,光耦合点具有相互作用区域15,所述相互作用区域15位于由光学部件10包围的体积的外部;b在生产区域120中产生光辐射,生产区域120至少部分地与光耦合点11的相互作用区域15重叠,光被施加到位于生产区域120的介质19,所述介质19改变光,从而产生光辐射;c在捕获区域130中捕获产生的光辐射的至少一部分,捕获区域130至少部分地与光耦合点11的相互作用区域15重叠,并且确定产生的光辐射的捕获部分的空间分辨分布;以及d根据所确定的产生的光辐射的捕获部分的空间分辨分布来确定光耦合点11的位置,产生的光辐射或产生的光辐射的至少一部分通过光耦合点11被捕获。因此,光耦合点11可以被精确地定位,相对定位公差优于1μm。因此,可以通过与光学部件10的光学连接实现低耦合损耗,并且可以将微结构100精确地放置在光耦合点11处。
本发明授权光耦合点的定位在权利要求书中公布了:1.一种用于定位光耦合点11的方法,其包括以下步骤: a提供包括光耦合点11的光学部件10,其中光耦合点具有相互作用区域15,所述相互作用区域15位于由光学部件10包围的体积的外部; b在生产区域120中产生光辐射,其中生产区域120至少部分地与光耦合点11的相互作用区域15重叠,其中光照射在位于生产区域120中的介质19,所述介质19改变光,从而产生光辐射; c在捕获区域130中捕获产生的光辐射的至少一部分,其中捕获区域130至少部分地与光耦合点11的相互作用区域15重叠,并确定产生的光辐射的所捕获部分的空间分辨分布;和 d根据所确定的产生的光辐射的捕获部分的空间分辨分布确定光耦合点11的位置, 其中通过光耦合点11捕获产生的光辐射的至少一部分。
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