ASML荷兰有限公司S·德德亚获国家专利权
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龙图腾网获悉ASML荷兰有限公司申请的专利用于极紫外光源的保护系统获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN113812215B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-04-21发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202080034591.8，技术领域涉及：H05G2/00；该发明授权用于极紫外光源的保护系统是由S·德德亚;H·G·泰格波什;R·W·J·M·范登布蒙设计研发完成，并于2020-05-07向国家知识产权局提交的专利申请。
本用于极紫外光源的保护系统在说明书摘要公布了：一种用于极紫外光EUV源的目标输送系统包括：导管，该导管包括外部、内部导管区域和限定孔口的端部。内部导管区域被配置为接收当处于等离子体状态时发射EUV光的目标材料，并且孔口被配置为向真空室的内部提供目标材料。目标输送系统还包括保护系统，该保护系统被配置为使保护气体远离限定孔口的端部并且朝向真空室的内部流动。流动的保护气体被配置为引导一种或多种污染物质远离限定孔口的端部。
本发明授权用于极紫外光源的保护系统在权利要求书中公布了：1.一种用于极紫外EUV光源的目标输送系统，所述系统包括： 导管，包括外部、内部导管区域和限定孔口的端部，其中所述内部导管区域被配置为接收当处于等离子体状态时发射EUV光的目标材料，并且所述孔口被配置为向真空室的内部提供所述目标材料；以及 保护系统，被配置为使保护气体远离限定孔口的所述端部并且朝向所述真空室的所述内部流动，其中流动的所述保护气体被配置为引导一种或多种污染物质远离限定所述孔口的所述端部；以及 控制系统，所述控制系统基于所述EUV光源的状态以及所述保护气体的质量确定要使用多种保护气体中的哪种保护气体作为所述保护气体。
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2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。
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