苏州晶湛半导体有限公司刘慰华获国家专利权
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龙图腾网获悉苏州晶湛半导体有限公司申请的专利片槽和石墨载片盘获国家发明授权专利权,本发明授权专利权由国家知识产权局授予,授权公告号为:CN115706045B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-04-17发布的发明授权授权公告中获悉:该发明授权的专利申请号/专利号为:202110919677.5,技术领域涉及:H10P72/76;该发明授权片槽和石墨载片盘是由刘慰华设计研发完成,并于2021-08-11向国家知识产权局提交的专利申请。
本片槽和石墨载片盘在说明书摘要公布了:本申请提供了一种片槽和石墨载片盘,涉及半导体芯片制造技术领域,该片槽包括承载结构,用于承载晶圆片;限位结构,通过定位结构与承载结构连接,限位结构用于对晶圆片限位;位于承载结构和限位结构之间的高度调节结构,高度调节结构构造为随着旋转限位结构与承载结构的相对角度,以调节限位结构相对承载结构的高度;以及定位结构,配合高度调节结构以固定承载结构和限位结构;通过调节限位结构相对承载结构的高度,保证载入片槽中的晶圆片的表面与片槽表面即限位结构的表面基本处于同一高度,从而满足片槽的深度与不同厚度的晶圆片相匹配的要求,避免晶圆片和片槽的表面高度不一致造成工艺过程中的不稳定,提高了晶圆片的性能和产品良率。
本发明授权片槽和石墨载片盘在权利要求书中公布了:1.一种片槽,其特征在于,包括: 承载结构,用于承载晶圆片; 限位结构,通过定位结构与所述承载结构连接,所述限位结构用于对所述晶圆片限位; 位于所述承载结构和所述限位结构之间的高度调节结构,所述高度调节结构构造为随着旋转所述限位结构与所述承载结构的相对角度,以调节所述限位结构相对所述承载结构的高度,使所述片槽中的所述晶圆片的表面与所述限位结构的上表面处于同一高度;以及 所述定位结构,配合所述高度调节结构以固定所述承载结构和所述限位结构。
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