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芯恩(青岛)集成电路有限公司刘静获国家专利权

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龙图腾网获悉芯恩(青岛)集成电路有限公司申请的专利一种半导体工艺装置获国家实用新型专利权,本实用新型专利权由国家知识产权局授予,授权公告号为:CN224124530U

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-04-14发布的实用新型授权公告中获悉:该实用新型的专利申请号/专利号为:202520134542.1,技术领域涉及:H10P72/00;该实用新型一种半导体工艺装置是由刘静设计研发完成,并于2025-01-20向国家知识产权局提交的专利申请。

一种半导体工艺装置在说明书摘要公布了:本实用新型提供一种半导体工艺装置,包括环绕晶圆底座的杯型罩本体,杯型罩本体的内壁为亲疏水可逆层;紫外光源用于改变亲疏水可逆层的亲疏水特性,晶圆底座用于放置待处理晶圆。本实用新型设置杯型罩本体内壁为亲疏水可逆层,配合紫外光源对亲疏水可逆层亲疏水性质的控制改变,使杯型罩本体内壁要防反溅时为亲水性,防止杯型罩本体内壁的污染物反溅到晶圆底座上的待处理晶圆,提高待处理晶圆的良率和性能可靠性;同时在对杯型罩本体内壁自清洗时变为疏水性提高杯型罩本体自清洗效果;另外用升降驱动结构驱动杯型罩本体和晶圆底座之间的相对升降,使紫外光源可靠近所述杯型罩本体内壁的各个位置以得到均匀的亲疏水性改变效果。

本实用新型一种半导体工艺装置在权利要求书中公布了:1.一种半导体工艺装置,其特征在于,所述半导体工艺装置包括:杯型罩本体、晶圆底座和可控制开关的紫外光源; 所述杯型罩本体为环绕所述晶圆底座的杯形外壳,所述杯型罩本体的内壁为亲疏水可逆层;所述紫外光源用于改变所述亲疏水可逆层的亲疏水特性,所述晶圆底座用于放置待处理晶圆。

如需购买、转让、实施、许可或投资类似专利技术,可联系本专利的申请人或专利权人芯恩(青岛)集成电路有限公司,其通讯地址为:266000 山东省青岛市黄岛区太白山路19号德国企业南区401;或者联系龙图腾网官方客服,联系龙图腾网可拨打电话0551-65771310或微信搜索“龙图腾网”。

以上内容由龙图腾AI智能生成。

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