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龙图腾网获悉香港城市大学深圳福田研究院申请的专利一种硬质光学薄膜及其制备方法和应用获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN117535636B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-04-14发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202210924007.7，技术领域涉及：C23C14/35；该发明授权一种硬质光学薄膜及其制备方法和应用是由吕坚;卜钰设计研发完成，并于2022-08-02向国家知识产权局提交的专利申请。

本一种硬质光学薄膜及其制备方法和应用在说明书摘要公布了：一种硬质光学薄膜及其制备方法和应用，所述薄膜是一种具有纳米双相结构的光学薄膜，厚度可以调控，还具有高可见光透过率和硬度，且所述薄膜表面平整均匀，极具应用前景。本发明采用磁控溅射法在基体材料表面制备所述硬质光学薄膜，得到的薄膜与基体材料的结合力高，使得所述基体材料具有很高的硬度，很强的耐磨损能力，还具有一定的耐腐蚀能力。

本发明授权一种硬质光学薄膜及其制备方法和应用在权利要求书中公布了：1.一种复合膜，其特征在于，所述复合膜包括基体层和位于所述基体层一侧表面的一层硬质光学薄膜； 所述基体层选自软质基体或柔性超薄玻璃； 所述硬质光学薄膜是一种具有纳米双相结构的光学薄膜；具有纳米双相结构是指所述薄膜的微观结构中同时存在纳米晶结构和非晶结构； 构成所述薄膜的材料选自金属合金的氧化物或氮化物中的至少一种，所述金属合金能形成非晶结构，所述金属合金是MgZnCa合金、MgCuY合金、ZrTiFe合金、AlNiY合金这些能形成非晶结构的金属合金中的至少一种； 所述薄膜的可见光透过率为90%以上； 所述薄膜的硬度为10GPa以上； 所述复合膜通过包括以下步骤的方法制备得到： 1将靶材装入磁控溅射镀膜机靶材位置；其中，所述靶材为形成所述硬质光学薄膜的材料，选自金属合金； 2将基体材料放入磁控溅射镀膜机中； 3镀膜机抽真空到真空状态，调节功率，通入氩气Ar，对基体材料进行等离子预处理； 4调整溅射功率，控制温度，同时通入Ar与反应气O2或N2进行镀膜，在等离子预处理后的基体材料的表面形成所述硬质光学薄膜； 步骤3中，所述等离子预处理过程需要精确控制溅射功率和腔室内的Ar分压；所述功率控制在200~800W，所述腔室内的Ar分压控制在60%~80%； 步骤4中，所述溅射功率控制在200～800W；腔室内的Ar分压控制在60％～80％，所述腔室内的反应气分压控制在20％～40％；Ar的通量控制在30-50sccm；反应气的通量控制在5-30sccm。

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