HOYA株式会社佐藤浩一获国家专利权
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龙图腾网获悉HOYA株式会社申请的专利玻璃及光学元件获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN114853333B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-04-10发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202210004752.X，技术领域涉及：C03C3/062；该发明授权玻璃及光学元件是由佐藤浩一;丹野义刚;松本奈绪美设计研发完成，并于2022-01-05向国家知识产权局提交的专利申请。
本玻璃及光学元件在说明书摘要公布了：本发明的课题在于提供可形成对可见光具有优异遮光性的遮光部和具有优异透射性的透光部的低比重的玻璃、以及具备对可见光具有优异遮光性的遮光部和具有优异透射性的透光部的低比重的光学元件。本发明的氧化物玻璃中，P5+的含量为7～43阳离子％、Nb离子的含量为10～21阳离子％、Li+的含量为20阳离子％以上、Nb离子及Li+的总含量为48～70阳离子％、Bi离子的含量大于0阳离子％且为6阳离子％以下、Ba2+的含量为5阳离子％以下、Zr4+的含量为2阳离子％以下、Ti离子及W离子的总含量为5阳离子％以下、Li含量相对于Li+、Na+及K+的总含量的阳离子比[Li+Li++Na++K+]为0.5以上。
本发明授权玻璃及光学元件在权利要求书中公布了：1.一种氧化物玻璃，其中， P5+的含量为27~43阳离子%、 Nb离子的含量为10~21阳离子%、 Li+的含量为35~60阳离子%、 Nb离子及Li+的总含量为48~70阳离子%、 Bi离子的含量大于0阳离子%且为6阳离子%以下、 Ba2+的含量为5阳离子%以下、 Zr4+的含量为2阳离子%以下、 Ti离子及W离子的总含量为4阳离子%以下、 Li+含量相对于Li+、Na+及K+的总含量的阳离子比[Li+Li++Na++K+]为0.7以上， Ti离子、Nb离子，W离子及Bi离子的总含量相对于P5+、B3+及Si4+的总含量的阳离子比[Ti+Nb+W+BiP5++B3++Si4+]为0.7以下。
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