中国振华集团永光电子有限公司(国营第八七三厂)孟繁新获国家专利权
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龙图腾网获悉中国振华集团永光电子有限公司(国营第八七三厂)申请的专利一种高速场效应晶体管及其制备方法获国家发明授权专利权,本发明授权专利权由国家知识产权局授予,授权公告号为:CN114695520B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-04-10发布的发明授权授权公告中获悉:该发明授权的专利申请号/专利号为:202210468657.5,技术领域涉及:H10D62/17;该发明授权一种高速场效应晶体管及其制备方法是由孟繁新;姚秋原;袁强;贺晓金;陆超;王博;岳兰设计研发完成,并于2022-04-29向国家知识产权局提交的专利申请。
本一种高速场效应晶体管及其制备方法在说明书摘要公布了:本发明提供的一种高速场效应晶体管及其制备方法,包括衬底,所述衬底上设置有栅极单元与栅极单元两侧分别连接的源极单元、漏极单元,所述栅极单元包括本征GaAs层,本征GaAs层两端上依次覆盖有本征AlGaAs层和N+AlGaAs层,N+AlGaAs层的上端设置有栅极金属层,本征GaAs层的中部设置有P区,P区的下端与衬底接触,P区的上端依次覆盖有氧化层和多晶硅,多晶硅和氧化层的两侧与本征AlGaAs层接触。本发明在栅极、源极、漏极之间形成由AlGaAs和GaAs构成的异质结结构,该结构能够形成薄层N型导电沟道,从而消除了杂质散射的影响;且GaAs相对于Si具有更高的电子迁移率,因此多数载流子也移动的比硅中更快,此外GaAs也有减小寄生电容和信号损耗的特性,从而有效提升了输出功率和频率。
本发明授权一种高速场效应晶体管及其制备方法在权利要求书中公布了:1.一种高速场效应晶体管,包括衬底11,其特征在于:所述衬底11上设置有栅极单元及与栅极单元两侧分别连接的源极单元、漏极单元,所述栅极单元包括本征GaAs层10,本征GaAs层10两端上依次覆盖有本征AlGaAs层3和N+AlGaAs层2,N+AlGaAs层2的上端设置有栅极金属层1,本征GaAs层10的中部设置有P区9,P区9的下端与衬底11接触,P区9的上端依次覆盖有氧化层5和多晶硅4,多晶硅4和氧化层5的两侧与本征AlGaAs层3接触,本征GaAs层10的两侧分别与源极单元和漏极单元漏极连接。
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