浙江至格科技有限公司孙如获国家专利权
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龙图腾网获悉浙江至格科技有限公司申请的专利一种纳米压印和光刻工艺的兼容设备获国家实用新型专利权，本实用新型专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN224096121U 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-04-07发布的实用新型授权公告中获悉：该实用新型的专利申请号/专利号为：202521129811.1，技术领域涉及：G03F7/00；该实用新型一种纳米压印和光刻工艺的兼容设备是由孙如;赵沙欧;徐军;孟祥峰;冒新宇设计研发完成，并于2025-06-04向国家知识产权局提交的专利申请。
本一种纳米压印和光刻工艺的兼容设备在说明书摘要公布了：本实用新型提供一种纳米压印和光刻工艺的兼容设备，包括上料单元、匀胶单元、压印曝光组件、显影单元、下料单元以及取料单元。压印曝光组件包括第一压印曝光作业单元、第二压印曝光作业单元、曝光单元、第一压印单元以及第二压印单元。上料单元、匀胶单元、显影单元、下料单元、第一压印曝光作业单元以及第二压印曝光作业单元固定设置。取料单元、曝光单元、第一压印单元以及第二压印单元能够移动。本实用新型提供的上述纳米压印和光刻工艺的兼容设备能够实现纳米压印工艺和光刻工艺在同一设备进行作业，大大提高衍射光波导成品的制备效率。
本实用新型一种纳米压印和光刻工艺的兼容设备在权利要求书中公布了：1.一种纳米压印和光刻工艺的兼容设备，其特征在于，包括上料单元、匀胶单元、压印曝光组件、显影单元、下料单元以及取料单元； 所述压印曝光组件包括第一压印曝光作业单元、第二压印曝光作业单元、曝光单元、第一压印单元以及第二压印单元； 所述上料单元、匀胶单元、显影单元、下料单元、第一压印曝光作业单元以及第二压印曝光作业单元固定设置； 所述取料单元能够移动至上料单元、匀胶单元、显影单元、下料单元、第一压印曝光作业单元以及第二压印曝光作业单元； 所述曝光单元能够移动至第一压印曝光作业单元或第二压印曝光作业单元；所述第一压印单元能够移动至第一压印曝光作业单元，所述第二压印单元能够移动至第二压印曝光作业单元。
如需购买、转让、实施、许可或投资类似专利技术，可联系本专利的申请人或专利权人浙江至格科技有限公司，其通讯地址为：313098 浙江省湖州市龙溪街道红丰路2189号4幢；或者联系龙图腾网官方客服，联系龙图腾网可拨打电话0551-65771310或微信搜索“龙图腾网”。
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