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龙图腾网获悉江苏鲁汶仪器股份有限公司申请的专利一种等离子体增强化学气相沉积设备及其匀气盘获国家实用新型专利权，本实用新型专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN224091997U 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-04-07发布的实用新型授权公告中获悉：该实用新型的专利申请号/专利号为：202423289888.3，技术领域涉及：C23C16/50；该实用新型一种等离子体增强化学气相沉积设备及其匀气盘是由范思大;李小龙;刘通;张帅;崔虎山;许开东设计研发完成，并于2024-12-31向国家知识产权局提交的专利申请。

本一种等离子体增强化学气相沉积设备及其匀气盘在说明书摘要公布了：本实用新型公开一种等离子体增强化学气相沉积设备及其匀气盘，匀气盘包括匀气盘本体，匀气盘本体均匀分布有多个气孔，匀气盘本体用于根据晶圆沉积薄膜厚度分布图由中心往外依次划分为呈同心圆分布的多个区域，用于同晶圆沉积薄膜厚度分布图的多个部分一一对应，匀气盘本体每个区域的气孔的关键尺寸与晶圆沉积薄膜厚度分布图对应部分的厚度具有预设关系；晶圆沉积薄膜厚度分布图对应部分的厚度越大，匀气盘本体相应区域的气孔的细孔直径就越小或细孔长度就越长；晶圆沉积薄膜厚度分布图对应部分的厚度越小，匀气盘本体相应区域的气孔的细孔直径就越大或细孔长度就越短，用于调整晶圆表面各个区域的气体扩散量，有助于使晶圆上薄膜均匀性得到优化。

本实用新型一种等离子体增强化学气相沉积设备及其匀气盘在权利要求书中公布了：1.一种匀气盘，应用于等离子体增强化学气相沉积设备，包括匀气盘本体1，所述匀气盘本体1均匀分布有多个气孔11，其特征在于，所述匀气盘本体1用于根据晶圆沉积薄膜厚度分布图由中心往外依次划分为多个区域，所述匀气盘本体1的多个区域呈同心圆分布，且用于同所述晶圆沉积薄膜厚度分布图的多个部分一一对应，所述匀气盘本体1每个区域的气孔11的关键尺寸与所述晶圆沉积薄膜厚度分布图对应部分的厚度具有预设关系； 其中，所述晶圆沉积薄膜厚度分布图对应部分的厚度越大，所述匀气盘本体1相应区域的气孔11的细孔直径就越小或细孔长度就越长；所述晶圆沉积薄膜厚度分布图对应部分的厚度越小，所述匀气盘本体1相应区域的气孔11的细孔直径就越大或细孔长度就越短； 所述匀气盘本体1的多个区域至少包括：第一区域Ⅰ、第二区域Ⅱ和第三区域Ⅲ； 所述匀气盘本体的第一区域Ⅰ、第二区域Ⅱ和第三区域Ⅲ由所述匀气盘本体1的中心往外依次呈同心圆分布。

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