厦门芯壹方科技有限公司张婧获国家专利权
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龙图腾网获悉厦门芯壹方科技有限公司申请的专利双螺旋独立流道原子层沉积匀气盘结构获国家实用新型专利权，本实用新型专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN224091995U 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-04-07发布的实用新型授权公告中获悉：该实用新型的专利申请号/专利号为：202520824079.3，技术领域涉及：C23C16/455；该实用新型双螺旋独立流道原子层沉积匀气盘结构是由张婧;连水养;张志轩;吴金龙;王伟昌;朱玉泉设计研发完成，并于2025-04-28向国家知识产权局提交的专利申请。
本双螺旋独立流道原子层沉积匀气盘结构在说明书摘要公布了：本实用新型涉及一种双螺旋独立流道原子层沉积匀气盘结构，包括气盘本体、第一进气管和第二进气管，气盘本体内形成有第一螺旋流道和第二螺旋流道，第一螺旋流道和第二螺旋流道相阻隔，第一螺旋流道底部形成有多个间隔设置的第一出气孔，第二螺旋流道底部形成有多个间隔设置的第二出气孔，设置两个独立且不相通的第一螺旋流道和第二螺旋流道，使得前驱体A与前驱体B在气盘本体内始终走各自独立通道，彻底避免两种气体在分配路径中相遇并发生副反应，从源头上消除粉堵风险，即使对TMAH2O、SiCl4NH3等高活性体系亦安全可靠。
本实用新型双螺旋独立流道原子层沉积匀气盘结构在权利要求书中公布了：1.双螺旋独立流道原子层沉积匀气盘结构，其特征在于：包括气盘本体、第一进气管和第二进气管，所述气盘本体内形成有第一螺旋流道和第二螺旋流道，所述第一螺旋流道和第二螺旋流道相阻隔，所述第一螺旋流道底部形成有多个间隔设置的第一出气孔，所述第二螺旋流道底部形成有多个间隔设置的第二出气孔，所述第一螺旋流道内形成有第一进气孔，所述第二螺旋流道内形成有第二进气孔，所述第一进气管和第二进气管分别与第一进气孔和第二进气孔相连通。
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