深圳镭赫技术有限公司何曦获国家专利权
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龙图腾网获悉深圳镭赫技术有限公司申请的专利检测方法、设备及存储介质获国家发明授权专利权,本发明授权专利权由国家知识产权局授予,授权公告号为:CN121170274B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-04-07发布的发明授权授权公告中获悉:该发明授权的专利申请号/专利号为:202511704875.4,技术领域涉及:G06V10/25;该发明授权检测方法、设备及存储介质是由何曦;李青格乐;飞利浦·肖恩·加斯塔尔多设计研发完成,并于2025-11-20向国家知识产权局提交的专利申请。
本检测方法、设备及存储介质在说明书摘要公布了:本申请提供一种检测方法、设备及存储介质,该方法包括:获取样品的相位图,相位图包括在预设相位范围内周期性截断的相位分布,相位图包括像素位置和相位数值之间的对应关系,相位图包括第一相位图和第二相位图,第一相位图和第二相位图的相位分布具备不同的截断位置,截断位置为相位图中相位数值发生跳变的像素位置;基于相位图获取初始特征图,其中,初始特征图包括表示第一相位图中相位分布变化的第一特征图、以及表示第二相位图中相位分布变化的第二特征图;利用第一特征图和第二特征图中的一者调整另一者的相位分布变化,生成输出特征图,以用于对样品进行目标检测。本申请降低了基于包裹相位的目标检测复杂度,提升了目标检测效率。
本发明授权检测方法、设备及存储介质在权利要求书中公布了:1.一种检测方法,其特征在于,所述方法包括: 获取样品的相位图,所述相位图包括在预设相位范围内周期性截断的相位分布,所述相位图包括像素位置和相位数值之间的对应关系,所述相位图包括第一相位图和第二相位图,所述第一相位图和所述第二相位图的相位分布具备不同的截断位置,所述截断位置为所述相位图中相位数值发生跳变的像素位置; 基于所述相位图获取初始特征图,其中,所述初始特征图包括表示所述第一相位图中相位分布变化的第一特征图、以及表示所述第二相位图中相位分布变化的第二特征图; 利用所述第一特征图和所述第二特征图中的一者调整另一者的相位分布变化,生成输出特征图,以用于对所述样品进行目标检测; 其中,利用所述第一特征图和所述第二特征图中的一者调整另一者的相位分布变化,生成输出特征图,包括:对所述补充特征图和所述参考特征图进行差分处理,得到差分结果;根据所述差分结果,确定相位变化指数的差值满足预设差分阈值的部分像素位置,并基于所述部分像素位置得到差异区域;基于所述差异区域确定所述参考特征图中的相位截断区域,其中,所述差分结果包括所述补充特征图和所述参考特征图在相同像素位置的相位变化指数的差值,所述相位截断区域包括处于所述截断位置的预设像素范围内的像素位置;利用所述补充特征图调整所述参考特征图中所述相位截断区域的相位变化指数,得到输出特征图;其中,所述参考特征图为所述第一特征图和第二特征图中的一者,另一者为补充特征图。
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