瑞芯微电子股份有限公司郑先木获国家专利权
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龙图腾网获悉瑞芯微电子股份有限公司申请的专利图像处理方法、介质及电子设备获国家发明授权专利权,本发明授权专利权由国家知识产权局授予,授权公告号为:CN115689953B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-04-07发布的发明授权授权公告中获悉:该发明授权的专利申请号/专利号为:202110826514.2,技术领域涉及:G06T5/50;该发明授权图像处理方法、介质及电子设备是由郑先木;胡宏波设计研发完成,并于2021-07-21向国家知识产权局提交的专利申请。
本图像处理方法、介质及电子设备在说明书摘要公布了:本发明提供一种图像处理方法、介质及电子设备。所述图像处理方法包括:获取第一帧图像和第二帧图像;获取所述第一帧图像和所述第二帧图像的互功率谱;根据所述互功率谱获取对应的冲击响应图;根据所述冲击响应图中像素点的响应值获取所述第一帧图像和所述第二帧图像的第一偏移量;根据所述第一偏移量获取所述第一帧图像和所述第二帧图像之间的实际偏移量;根据所述实际偏移量将所述第一帧图像与所述第二帧图像进行拼接。所述图像处理方法能够实现所述第一帧图像和所述第二帧图像的拼接。
本发明授权图像处理方法、介质及电子设备在权利要求书中公布了:1.一种图像处理方法,其特征在于,所述图像处理方法包括: 获取第一帧图像和第二帧图像; 获取所述第一帧图像和所述第二帧图像的互功率谱; 根据所述互功率谱获取对应的冲击响应图; 根据所述冲击响应图中像素点的响应值获取所述第一帧图像和所述第二帧图像的第一偏移量; 根据所述第一偏移量获取所述第一帧图像和所述第二帧图像之间的实际偏移量; 根据所述实际偏移量将所述第一帧图像与所述第二帧图像进行拼接, 其中根据所述冲击响应图中像素点的响应值获取所述第一帧图像和所述第二帧图像的第一偏移量包括: 在所述冲击响应图中获取第一像素点,所述第一像素点是指所述冲击响应图中响应值最大的像素点; 对所述冲击响应图进行滤波以获取滤波图; 在所述滤波图中获取第二像素点,所述第二像素点是指所述滤波图中响应值最大的像素点; 在所述冲击响应图中获取第三像素点,所述第三像素点是指所述冲击响应图中与所述第二像素点对应的像素点; 获取第一区域内所有像素点的总响应值,所述第一区域包含所述第一像素点; 获取第二区域内所有像素点的总响应值,所述第二区域包含所述第三像素点,且所述第二区域的形状和尺寸与所述第一区域相同; 根据所述第一区域内所有像素点的总响应值和所述第二区域内所有像素点的总响应值从所述第一区域和所述第二区域中选取一参考区域; 根据所述参考区域的重心坐标和所述冲击响应图的中心坐标获取所述第一偏移量。
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