株式会社国际电气冈岛优作获国家专利权
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龙图腾网获悉株式会社国际电气申请的专利基板处理装置、半导体装置的制造方法、存储介质以及内管获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN115136284B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-04-07发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202080096625.6，技术领域涉及：H10P14/60；该发明授权基板处理装置、半导体装置的制造方法、存储介质以及内管是由冈岛优作;山口天和;坂井佑之辅;今井义则设计研发完成，并于2020-03-24向国家知识产权局提交的专利申请。
本基板处理装置、半导体装置的制造方法、存储介质以及内管在说明书摘要公布了：本发明提供一种基板处理装置，其具备：内管，其在内部具有将多张基板分别以水平姿势沿预定的排列方向排列为多层并收纳的基板收纳区域；外管，其配置于内管的外侧；气体供给口，其在内管的侧壁沿排列方向设置有多个；第一排气口，其在内管的侧壁沿排列方向设置有多个；第二排气口，其设置于外管的沿排列方向的一端侧；以及整流机构，其对内管与外管之间的圆环状空间内的气体流动进行控制，整流机构在多个第一排气口中的最接近第二排气口的第一排气口即排气口A与第二排气口之间的排气口A的附近具备第一翅片。
本发明授权基板处理装置、半导体装置的制造方法、存储介质以及内管在权利要求书中公布了：1.一种基板处理装置，其特征在于，具备： 内管，其在内部具有将多张基板分别以水平姿势沿预定的排列方向排列为多层并收纳的基板收纳区域； 外管，其配置于所述内管的外侧； 气体供给口，其在所述内管的侧壁沿所述排列方向设置有多个； 第一排气口，其在所述内管的侧壁沿所述排列方向设置有多个； 第二排气口，其设置于所述外管的沿所述排列方向的一端侧；以及 整流机构，其对所述内管与所述外管之间的圆环状空间内的气体流动进行控制， 所述整流机构在多个所述第一排气口中的最接近所述第二排气口的第一排气口即排气口A与所述第二排气口之间的所述排气口A的附近具备第一翅片，还在与所述排气口A不同的第一排气口即排气口B与所述第二排气口之间的所述排气口B的附近具备第二翅片，该第二翅片沿所述内管的侧壁的外周以比所述排气口B的水平方向上的内径大的预定长度设置，且其长度比所述第一翅片的长度短。
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